[发明专利]去除函数在确定抛光条件下的误差抑制能力的评价方法有效
| 申请号： | 201310581418.1 | 申请日： | 2013-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN103567866A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 王佳;范斌;万勇建;施春燕;卓彬;孟凯 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | B24B49/00 | 分类号： | B24B49/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 宋焰琴 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 去除 函数 确定 抛光 条件下 误差 抑制 能力 评价 方法 | ||
技术领域
本发明属于先进光学制造领域，具体涉及的是去除函数在确定抛光条件下的误差抑制能力的评价方法。
背景技术
在强激光和高精度光学系统中不同频段的制造误差对光学元件性能的影响越来越受到关注，低频误差使成像系统的像扭曲变形，引入各种像差；中频误差使光线发生小角度散射，从而使成像产生耀斑，影响像的对比度；高频误差使光线发生大角度散射，降低镜面的反射率；因此分频段控制这些表面制造误差显得相当重要。对于低频误差，通过控制局部区域的驻留时间比较容易消除，然而对于小尺度中高频误差却难以通过上述方法消除。研究评价和消除CCOS技术带来的中高频误差的相关方法成为光学加工的难点和热点。
平滑谱函数是中国专利号“201310315171.9”“CCOS抛光工艺抑制不同频段误差能力的评价方法”提出的一种评价CCOS抛光工艺对不同频段误差抑制能力的方法。
发明内容
为解决现有的技术问题，本发明基于平滑谱函数H构建计算CCOS抛光工艺误差抑制能力的改进的数学模型，并提供去除函数在确定抛光条件下的误差抑制能力的评价方法。
本发明去除函数在确定抛光条件下的误差抑制能力的评价方法，该误差抑制能力的评价步骤如下：
步骤S1：利用第j-1次和第j次抛光后光学元件面形数据的功率谱密度函数PSDj-1、PSDj，构建出平滑谱函数模型表示为：
关系式(1)中H为平滑谱函数即去除函数归一化后的傅里叶变换；
步骤S2：将平滑谱函数两端同时乘以得到如下关系式：
步骤S3：对关系式(2)进行m项求和相加运算，构建出第m次抛光工艺的误差抑制能力计算模型HModified表示如下：
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