[发明专利]可变温度幕状显影装置

摘要

本发明属于在半导体晶片上获得光刻胶图形的显影处理的设备，具体地说是一种可变温度幕状显影装置。包括幕状喷嘴、半导体温控模块及循环水散热片，其中半导体温控模块设置于幕状喷嘴上、并与设置于幕状喷嘴内部的温度传感器连接，所述循环水散热片设置于半导体温控模块上。本发明对实施了衬底上的曝光处理的抗蚀剂膜实施显影处理，在晶片的表面上喷涂一层显影剂。在涂显影剂的时候，喷洒出的液体为在喷嘴本体经过精确温控，并且温度可根据用户需求自行设定，液体喷洒出的形状为幕状。

主权项

一种可变温度幕状显影装置，其特征在于：包括幕状喷嘴(1)、半导体温控模块(2)、循环水散热片(3)、温度传感器及温控器，其中半导体温控模块(2)设置于幕状喷嘴(1)的外侧、并与设置于幕状喷嘴(1)外部的温控器连接，所述循环水散热片(3)设置于半导体温控模块(2)上，所述温度传感器设置于幕状喷嘴(1)的内部、并与温控器连接。