[发明专利]一种制备新型导电氧化铟锡锌薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 201310541033.2 申请日: 2013-11-05
公开(公告)号: CN103572230A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 黄信二 申请(专利权)人: 研创应用材料(赣州)有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/08;C23C14/18
代理公司: 江西省专利事务所 36100 代理人: 杨志宇
地址: 341000 江西省赣*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的目的是提供一种制备新型导电氧化铟锡锌薄膜的方法,在制备新型氧化铟锡锌靶材的过程中,添加高含量的氧化锌元素的形成氧化铟锡锌材料,溅镀薄膜时搭配中间层的银或银合金薄膜,形成三明治的多层薄膜结构设计,大幅降低薄膜的电阻,在适当的厚度控制下提高薄膜在可见光的透光度,提高了氧化铟锡锌薄膜在触控屏及CIGS等薄膜光电池中的应用性,满足了生产的要求。由于适合低温度(<150℃)镀膜,所以可以应用于玻璃基材或者可挠性PET基材,扩大了应用范围。电阻值可降低至5×10-5Ωcm以下,透光性可高达95%以上。
搜索关键词: 一种 制备 新型 导电 氧化 铟锡锌 薄膜 方法
【主权项】:
一种制备新型导电氧化铟锡锌薄膜的方法,其特征为:将基板、纯银或银合金靶材及氧化铟锡锌靶材放入真空溅镀机中、真空抽气系统将溅镀腔体背景压力抽至0.7×10‑5‑0.9×10‑5 torr后,利用氩气当作工作气体,透过节流阀将通入氩气控制溅镀腔体的工作压力为2×10‑3torr,基板不加热,接着先以DC电源溅镀第一层10‑50nm厚的氧化铟锡锌薄膜,然后以DC电源溅镀第二层5‑15nm厚的纯银或银合金薄膜,最后以DC电源溅镀第三层10‑50nm厚的氧化铟锡锌薄膜,即形成所需的基板/ITZO/银或银合金/ITZO多层膜结构,即得。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于研创应用材料(赣州)有限公司,未经研创应用材料(赣州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310541033.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top