[发明专利]柔性衬底上制备石墨烯基光电晶体管的方法有效

专利信息
申请号: 201310518367.8 申请日: 2013-10-28
公开(公告)号: CN103531664A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 鲍桥梁;李绍娟;薛运周 申请(专利权)人: 苏州大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 刘懿
地址: 215123 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种柔性衬底上制备石墨烯基光电晶体管的方法,包括以下步骤,在柔性塑料衬底上通过印刷或磁控溅射方法覆盖一层金属材料,然后光刻和刻蚀形成栅电极结构的栅电极层;在栅电极层上通过电镀或磁控溅射方法覆盖一绝缘介质层;在绝缘介质层上通过印刷技术转移单层或数层的石墨烯层;在石墨烯层上通过印刷技术转移一层二硫化物薄膜,二硫化物薄膜位于石墨烯层和栅介质层之上;通过印刷或磁控溅射的方法分别在石墨烯层和二硫化物薄膜上淀积第一电极层和第二电极层。本发明基于柔性衬底的光电晶体管的构建方法,可以采用印刷的方法构建,制作方法简单、成本低。同时具有柔性、轻便、体积小、集成度高的特点。
搜索关键词: 柔性 衬底 制备 石墨 光电晶体管 方法
【主权项】:
一种柔性衬底上制备石墨烯基光电晶体管的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一)在柔性塑料衬底上通过印刷或磁控溅射方法覆盖一层金属材料,然后光刻和刻蚀形成栅电极结构的栅电极层;步骤二)在所述栅电极层上通过电镀或磁控溅射方法覆盖一绝缘介质层;步骤三)在所述绝缘介质层上通过印刷技术转移单层或数层的石墨烯层;步骤四)在所述石墨烯层上通过印刷技术转移一层二硫化物薄膜,所述二硫化物薄膜位于石墨烯层和栅介质层之上;步骤五)通过印刷或磁控溅射的方法分别在石墨烯层和二硫化物薄膜上淀积第一电极层和第二电极层。
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