[发明专利]一种扫描曝光装置有效
| 申请号： | 201310517418.5 | 申请日： | 2013-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN104570615A | 公开（公告）日： | 2015-04-29 |
| 发明（设计）人： | 朱立荣 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B17/08 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种扫描曝光装置，用于将掩模图案形成在基板上，包括：照明光学系统，所述照明光学系统具有多个照明单元，所述多个照明单元在所述掩模的掩模面形成多个照明视场；能量传感器，用于探测所述照明视场的能量分布；投影光学系统，所述投影光学系统具有分别与照明光学系统中的照明单元相应的多个投影单元，所述多个照明视场经多个投影单元在基板上形成拼接视场，所述投影单元包括视场光阑，所述视场光阑由多个光阑拼接而成；以及调整单元，依据所述能量传感器的探测值，调整所述视场光阑的大小和形状。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 扫描 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种扫描曝光装置，用于将掩模图案形成在基板上，包括：照明光学系统，所述照明光学系统具有多个照明单元，所述多个照明单元在所述掩模的掩模面形成多个照明视场；能量传感器，用于探测所述照明视场的能量分布；投影光学系统，所述投影光学系统具有分别与照明光学系统中的照明单元相应的多个投影单元，所述多个照明视场经多个投影单元在基板上形成拼接视场，所述投影单元包括视场光阑，所述视场光阑由多个光阑拼接而成；以及调整单元，依据所述能量传感器的探测值，调整所述视场光阑的大小和形状。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310517418.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
