[发明专利]一种扫描曝光装置

权利要求书

1.一种扫描曝光装置，用于将掩模图案形成在基板上，包括：

照明光学系统，所述照明光学系统具有多个照明单元，所述多个照明单元在所述掩模的掩模面形成多个照明视场；

能量传感器，用于探测所述照明视场的能量分布；

投影光学系统，所述投影光学系统具有分别与照明光学系统中的照明单元相应的多个投影单元，所述多个照明视场经多个投影单元在基板上形成拼接视场，所述投影单元包括视场光阑，所述视场光阑由多个光阑拼接而成；以及

调整单元，依据所述能量传感器的探测值，调整所述视场光阑的大小和形状。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述视场光阑的形状为阶梯状。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，所述视场光阑的阶梯高度H可调。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其中，根据单个照明单元在掩模上形成的照明视场能量分布决定是否调整阶梯高度H：当能量分布均匀时，不调整阶梯高度H；当能量分布不均匀，边缘视场的能量下降时对阶梯高度H进行调整，调整量H’=H*t%，t%为边缘能量下降值。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其中，所述阶梯高度H的初始高度为D/2，D为视场光阑的高度。

6.根据权利要求4或5所述的曝光装置，其中，当照明单元的照明情况不同时，通过分别调节相应的视场光阑在基板上获得均匀的能量。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述投影单元还包括两组具有相同倍率的成像镜组，所述视场光阑设置在所述两组成像镜组之间。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其中，所述投影单元的成像镜组都采用折反射式结构。

9.根据权利要求7所述的曝光装置，其中，所述成像镜组分别依次包括一棱镜、一镜组和一反射镜，入射光经第一成像镜组的棱镜反射后进入镜组，反射镜将镜组的出射光反射回镜组，并再次被棱镜反射，经棱镜第二次反射的光通过视场光阑后入射至第二成像镜组。

10.根据权利要求8所述的曝光装置，其中，所述成像镜组的放大倍率均为-1倍，从而投影单元的放大倍率为1倍。