[发明专利]一种耐低温镭射膜工艺有效
| 申请号： | 201310480162.5 | 申请日： | 2013-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN103538343A | 公开（公告）日： | 2014-01-29 |
| 发明（设计）人： | 邓刚;俞飚 | 申请（专利权）人： | 绍兴虎彩激光材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B32B37/10 | 分类号： | B32B37/10;B32B27/36;B32B27/08;B32B15/20;B32B15/08 |
| 代理公司： | 绍兴市越兴专利事务所 33220 | 代理人： | 蒋卫东 |
| 地址： | 312000 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明主要公开了一种耐低温镭射膜工艺，首先裁切所需要的PET薄膜，在PET薄膜上涂布一层树脂溶液，树脂溶液经过涂布烘干后作为承压层，承压层经过模压后有镭射效果，成为镭射层，在镭射层之上真空镀铝，最后复卷分切成成品。使用本发明生产的镭射膜制作成印刷品在较低温度的环境下具有优良的耐爆铝性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低温 镭射 工艺 | ||
【主权项】：
一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：首先裁切所需要的PET薄膜，在PET薄膜上涂布一层树脂溶液，树脂溶液经过涂布烘干后作为承压层，承压层经过模压后有镭射效果，成为镭射层，在镭射层之上真空镀铝，最后复卷分切成成品。
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