[发明专利]一种耐低温镭射膜工艺

权利要求书

1.一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：首先裁切所需要的PET薄膜，在PET薄膜上涂布一层树脂溶液，树脂溶液经过涂布烘干后作为承压层，承压层经过模压后有镭射效果，成为镭射层，在镭射层之上真空镀铝，最后复卷分切成成品。

2.如权利要求1所述的一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：所述树脂溶液的配料步骤：树脂原液中加入质量百分比为5%的丙二醇甲醚，搅拌制成。

3.如权利要求2所述的一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：所述的树脂原液中溶剂组份包括丁酮、乙酯、丙酯、丁酯，树脂组份为丙烯酸类，其中丁酮：乙酯：丙酯：丁酯的质量百分比为10-20%：60-70%:15%：5%。

4.如权利要求2所述的一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：当环境温度≥25℃，配料需搅拌30分钟；当环境温度≤25℃，配料需搅拌60分钟。

5.如权利要求1所述的一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：所述树脂溶液涂布时，设置好进排风风门和烘道温度，设置好张力系统，树脂溶液粘度要求15-17s，用小料桶循环涂布并使用溶剂滴加补充装置补充溶剂；采用200线电雕辊在电晕面涂布，要求湿涂量6±0.5g，涂布树脂溶液，居中涂布，两边留白；涂布温度80～160℃，速度100m/min，风门位置：进风：50%/50%/100%/100%/100%，排风：50%/50%/100%/100%/100%/100%，回风：全部开到最大，涂布干量控制在0.7-1.0g/m²；关闭涂布头抽风；涂布头环境温度控制20-30℃，控制料槽涂布溶液温度20-25℃。

6.如权利要求5所述的一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：所述的溶剂滴加补充装置所补充的溶剂为丁酮和丙二醇甲醚，两者质量比为丁酮：丙二醇甲醚=3：1。

7.如权利要求1所述的一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：所述镭射层，在模压时需选择合适的版辊，版辊上固定全息工作版，通过加热油把版辊上的全息工作版加热到温度130±10℃，模压速度30±10m/min，全息工作版上的全息镭射信息转移到涂布承压层上。

8.如权利要求1所述的一种耐低温镭射膜工艺，其特征在于：所述真空镀铝，在承压面镀上铝层。