[发明专利]抗蚀剂剥离液的再生方法以及再生装置有效
| 申请号： | 201310473199.5 | 申请日： | 2013-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN103721432A | 公开（公告）日： | 2014-04-16 |
| 发明（设计）人： | 大野顺也;川瀬龙洋;井上恭;井城大世;小林繁;増田义登 | 申请（专利权）人： | 日本瑞环化工有限公司;松下环境工程株式会社 |
| 主分类号： | B01D1/22 | 分类号： | B01D1/22 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及抗蚀剂剥离液的再生方法以及再生装置。在分离使用完毕的抗蚀剂剥离液时，需要预先检出水分量，调整分离工序中的水分的粗分离的处理速率，但使用完毕的抗蚀剂剥离液由于浮游有抗蚀剂成分和无机固形物，因此无法通过吸光度计测定。本发明提供一种抗蚀剂剥离液的再生方法，其特征在于，其具有下述减少工序：通过超声波传感器对使用完毕的抗蚀剂剥离液中的水分量进行检测，在前述水分量比规定值大的情况下，减少处理量。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 剥离 再生 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
一种抗蚀剂剥离液的再生方法，其特征在于，其具有下述工序：低沸点分离工序，从抗蚀剂的剥离中使用的至少含有溶剂、水和抗蚀剂成分的使用完毕的抗蚀剂剥离液气化分离并取出含所述水的低沸点成分的一部分作为废液A；高沸点分离工序，将所述低沸点分离工序的分离残留液气化分离，取出含所述抗蚀剂成分的含抗蚀剂的残留液、并取出所述溶剂和含所述水的低沸点成分的剩余部分作为分离液；和，精制工序，从所述高沸点分离工序的分离液气化分离含所述水的低沸点成分的剩余部分作为废液B，将分离残留液作为抗蚀剂剥离再生液取出，并且具有下述减少工序：在所述低沸点分离工序的前段使用超声波传感器检测所述使用完毕的抗蚀剂剥离液中的水分量，在所述水分量比规定值大的情况下减少使用完毕的抗蚀剂剥离液的处理量。
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