[发明专利]抗蚀剂剥离液的再生方法以及再生装置有效
| 申请号: | 201310473199.5 | 申请日: | 2013-10-11 |
| 公开(公告)号: | CN103721432A | 公开(公告)日: | 2014-04-16 |
| 发明(设计)人: | 大野顺也;川瀬龙洋;井上恭;井城大世;小林繁;増田义登 | 申请(专利权)人: | 日本瑞环化工有限公司;松下环境工程株式会社 |
| 主分类号: | B01D1/22 | 分类号: | B01D1/22 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 抗蚀剂 剥离 再生 方法 以及 装置 | ||
1.一种抗蚀剂剥离液的再生方法,其特征在于,其具有下述工序:
低沸点分离工序,从抗蚀剂的剥离中使用的至少含有溶剂、水和抗蚀剂成分的使用完毕的抗蚀剂剥离液气化分离并取出含所述水的低沸点成分的一部分作为废液A;
高沸点分离工序,将所述低沸点分离工序的分离残留液气化分离,取出含所述抗蚀剂成分的含抗蚀剂的残留液、并取出所述溶剂和含所述水的低沸点成分的剩余部分作为分离液;和,
精制工序,从所述高沸点分离工序的分离液气化分离含所述水的低沸点成分的剩余部分作为废液B,将分离残留液作为抗蚀剂剥离再生液取出,
并且具有下述减少工序:在所述低沸点分离工序的前段使用超声波传感器检测所述使用完毕的抗蚀剂剥离液中的水分量,在所述水分量比规定值大的情况下减少使用完毕的抗蚀剂剥离液的处理量。
2.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液的再生方法,其特征在于,所述减少工序减少供给至所述低沸点分离工序的所述使用完毕的抗蚀剂剥离液的移送量、和从所述低沸点分离工序移送至所述高沸点分离工序的所述分离残留液的移送量。
3.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液的再生方法,其特征在于,所述减少工序将所述高沸点分离工序和所述精制工序的处理温度降低至比常规运转状态低。
4.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液的再生方法,其特征在于,所述低沸点分离工序的分离残留物在从所述低沸点分离工序移送至所述高沸点分离工序时,在保温状态下被移送。
5.根据权利要求1~4中的任一项权利要求所述的抗蚀剂剥离液的再生方法,其特征在于,所述高沸点分离工序的分离液在从所述高沸点分离工序移送至所述精制工序时,在减压并且保温状态下被移送。
6.一种抗蚀剂剥离液的再生装置,其特征在于,其具有:
低沸点分离器,从抗蚀剂的剥离中使用的至少含有溶剂、水和抗蚀剂成分的使用完毕的抗蚀剂剥离液分离含所述水的低沸点成分的一部分并作为废液A气化分离并取出;
高沸点分离器,将所述低沸点分离器的分离残留液气化分离,取出含所述抗蚀剂成分的含抗蚀剂的残留液、并取出所述溶剂和含所述水的低沸点成分的剩余部分作为分离液;和
精制器,从所述高沸点分离器的分离液气化分离含所述水的低沸点成分的剩余部分作为废液B,将分离残留液作为抗蚀剂剥离再生液取出,
并且具有控制装置,所述控制装置如下进行控制:在所述低沸点分离器的前段使用超声波传感器检测所述使用完毕的抗蚀剂剥离液中的水分量,在所述水分量比规定值大的情况下,减少使用完毕的抗蚀剂剥离液的处理量。
7.根据权利要求6所述的抗蚀剂剥离液的再生装置,其特征在于,所述控制装置减少供给至所述低沸点分离器的所述使用完毕的抗蚀剂剥离液的移送量、和从所述低沸点分离器移送至所述高沸点分离器的所述分离残留液的移送量。
8.根据权利要求6所述的抗蚀剂剥离液的再生装置,其特征在于,所述控制装置将所述高沸点分离器和所述精制器的处理温度降低至比常规运转状态低。
9.根据权利要求6所述的抗蚀剂剥离液的再生装置,其特征在于,在将所述低沸点分离器的分离残留液从所述低沸点分离器移送至所述高沸点分离器的配管上配设有对所述配管进行保温的配管保温单元。
10.根据权利要求6~9中的任一项权利要求所述的抗蚀剂剥离液的再生装置,其特征在于,在将所述高沸点分离器的分离液从所述高沸点分离器移送至所述精制器的配管上配设有对所述配管内进行减压的减压单元、和对所述配管进行保温的配管保温单元。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本瑞环化工有限公司;松下环境工程株式会社,未经日本瑞环化工有限公司;松下环境工程株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310473199.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





