[发明专利]图像传感单元及其形成方法

摘要

一种图像传感单元及其形成方法，所述图像传感单元的形成方法包括：提供像素电极材料层；对所述像素电极材料层进行处理形成像素电极，所述像素电极的表面凹凸不平，具有凸起结构；在所述像素电极表面形成有机光电转换层。上述方法可以提高图像传感单元的性能。

主权项

1.一种图像传感单元的形成方法，其特征在于，包括：提供像素电极材料层；对所述像素电极材料层进行处理形成像素电极，所述像素电极的表面凹凸不平，具有若干凸起结构；在所述像素电极表面形成有机光电转换层；其中，形成所述像素电极的方法包括：在所述像素电极材料层表面形成岛状分布的图形化掩膜层；以所述图形化掩膜层为掩膜，刻蚀部分厚度的像素电极材料层，使所述像素电极材料层表面形成凹槽；然后去除所述图形化掩膜层；形成所述图形化掩膜层的方法包括：在所述像素电极材料层表面形成第一掩膜层；在所述第一掩膜层表面形成岛状分布的第二掩膜层；以所述第二掩膜层为掩膜刻蚀所述第一掩膜层，形成图形化掩膜层；去除第二掩膜层；所述第二掩膜层的材料为硅，所述第二掩膜层为硅岛；所述硅岛的宽度为10nm～20nm，相邻硅岛之间的距离为10nm～30nm。