[发明专利]涂覆的碳颗粒的制造方法及其在锂离子电池阳极材料中的应用有效
| 申请号: | 201310412369.9 | 申请日: | 2006-01-25 | 
| 公开(公告)号: | CN104789936A | 公开(公告)日: | 2015-07-22 | 
| 发明(设计)人: | F.-M.佩特拉特;H.维格斯;B.里肯;M.霍尔扎普菲尔;H.布奎阿;P.诺瓦克 | 申请(专利权)人: | 赢创德固赛有限责任公司 | 
| 主分类号: | C23C16/24 | 分类号: | C23C16/24;C23C16/44;H01M4/133;H01M4/36;H01M4/38;H01M4/587;H01M10/0525 | 
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周铁;李炳爱 | 
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE | 
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| 摘要: | 本发明涉及一种制造涂覆的导电碳颗粒的方法,根据该方法制备的涂覆的导电碳颗粒,包含该涂覆的导电碳颗粒的阳极材料,以及包含由该阳极材料构成的阳极的锂离子电池,所述方法的特征在于在无氧气氛中于反应空间内通过在500-1400℃的温度下的化学气相沉积由至少一种气态硅烷对导电碳颗粒涂覆掺杂或无掺杂的元素硅,其中所述导电碳颗粒的比电阻不超过10-2Ωcm,并且所述导电碳颗粒是石墨形式晶态的或者是由相互结合形成聚集体和/或附聚体的初始颗粒构成的炭黑颗粒,在所述气相沉积过程中所述气态硅烷和掺杂元素的气态化合物分解形成掺杂或无掺杂的元素硅,并且在气相沉积过程中所述导电碳颗粒处于不断的运动中。 | ||
| 搜索关键词: | 颗粒 制造 方法 及其 锂离子电池 阳极 材料 中的 应用 | ||
【主权项】:
                 一种制造涂覆的导电碳颗粒的方法,其特征在于,在无氧气氛中于反应空间内通过在500‑1400℃的温度下的化学气相沉积由至少一种气态硅烷对导电碳颗粒涂覆掺杂或无掺杂的元素硅,其中所述导电碳颗粒的比电阻不超过10‑2 Ωcm,并且所述导电碳颗粒是石墨形式晶态的或者是由相互结合形成聚集体和/或附聚体的初始颗粒构成的炭黑颗粒,在所述气相沉积过程中所述气态硅烷和掺杂元素的气态化合物分解形成掺杂或无掺杂的元素硅,并且在气相沉积过程中所述导电碳颗粒处于不断的运动中。
            
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                    C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
                
            C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





