[发明专利]半导体处理系统、衬底托盘以及机械手无效
申请号: | 201310411110.2 | 申请日: | 2013-09-10 |
公开(公告)号: | CN103465266A | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 田益西 | 申请(专利权)人: | 光垒光电科技(上海)有限公司 |
主分类号: | B25J15/00 | 分类号: | B25J15/00;H01L21/677 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 200050 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明揭示了一种半导体处理系统,包括反应腔、衬底托盘和机械手,所述衬底托盘包括底面,所述机械手包括叉状的两只手指,所述手指包括上表面,所述衬底托盘通过所述底面支撑在所述两个手指的上表面,所述手指的上表面包括定位结构,所述衬底托盘的底面具有与定位结构相配合的配合结构。本发明还提供一种用于如上所述的半导体处理系统的衬底托盘和机械手。本发明提供的半导体处理系统中,所述定位结构与所述配合结构相配合限制所述衬底托盘相对所述手指运动,从而可以固定所述机械手与衬底托盘的相对位置,能够避免所述衬底托盘在所述机械手上偏移。 | ||
搜索关键词: | 半导体 处理 系统 衬底 托盘 以及 机械手 | ||
【主权项】:
一种半导体处理系统,包括反应腔、衬底托盘和机械手,所述机械手用于向所述反应腔中传输所述衬底托盘;所述衬底托盘包括底面,所述机械手包括叉状的两只手指,所述手指包括上表面,所述上表面对应所述衬底托盘的底面,所述衬底托盘通过所述底面支撑在所述两个手指的上表面,其特征在于,所述手指的上表面包括定位结构,所述衬底托盘的底面具有与定位结构相配合的配合结构;当所述衬底托盘支撑在所述两个手指的上表面时,所述定位结构与所述配合结构相配合限制所述衬底托盘相对所述手指运动,使得所述衬底托盘由所述两个手指支撑。
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