[发明专利]抗蓝光镜片的制作方法有效
| 申请号： | 201310396622.6 | 申请日： | 2013-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN103439802A | 公开（公告）日： | 2013-12-11 |
| 发明（设计）人： | 吴天恕;简志仰;陈坤煌 | 申请（专利权）人： | 杏晖光学（厦门）有限公司 |
| 主分类号： | G02C7/10 | 分类号： | G02C7/10;G02B1/10 |
| 代理公司： | 厦门市诚得知识产权代理事务所(普通合伙) 35209 | 代理人： | 何家富 |
| 地址： | 361000 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学镜片的制作方法，尤其涉及抗蓝光镜片的制作方法。本发明的抗蓝光镜片的制作方法，在镜片基片的一个表面依次进行真空蒸镀，由内向外共三层，分别是：第一层的氧化硅层，第二层的五氧化三钛层，第三层的二氧化硅层。具体的：第一层的氧化硅层的镀膜作业是设定真空镀膜机以时间控制方式进行镀膜；第二层的五氧化三钛层的镀膜作业是设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜；第三层的二氧化硅层的镀膜作业是设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜。本发明采用如上技术方案，可以制出衰减380nm~500nm波长光（主要是蓝光部分）70%左右（70%±3%）的抗蓝光镜片，可在一些场合应用，具有一定商业用途。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蓝光 镜片 制作方法 | ||
【主权项】：
抗蓝光镜片的制作方法，在镜片基片的一个表面依次进行真空蒸镀，由内向外共三层，分别是：第一层的氧化硅层，第二层的五氧化三钛层，第三层的二氧化硅层；具体的，第一层的氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以时间控制方式进行镀膜，设定设备作业条件是：时长设为30秒，抵抗加热的电流设为125安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10‑4Torr；第二层的五氧化三钛层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为420纳米，监控膜厚设为0.25QWOT，电子枪的电流设为409安培，充氧量设为28sccm，炉腔内真空系数设为0.8×10‑4Torr；第三层的二氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为420纳米，监控膜厚设为1.90QWOT，电子枪的电流设为150安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10‑4Torr。
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