[发明专利]抗蓝光镜片的制作方法有效
| 申请号： | 201310396622.6 | 申请日： | 2013-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN103439802A | 公开（公告）日： | 2013-12-11 |
| 发明（设计）人： | 吴天恕;简志仰;陈坤煌 | 申请（专利权）人： | 杏晖光学（厦门）有限公司 |
| 主分类号： | G02C7/10 | 分类号： | G02C7/10;G02B1/10 |
| 代理公司： | 厦门市诚得知识产权代理事务所(普通合伙) 35209 | 代理人： | 何家富 |
| 地址： | 361000 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抗蓝光 镜片 制作方法 | ||
1.抗蓝光镜片的制作方法，在镜片基片的一个表面依次进行真空蒸镀，由内向外共三层，分别是：第一层的氧化硅层，第二层的五氧化三钛层，第三层的二氧化硅层；具体的，
第一层的氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以时间控制方式进行镀膜，设定设备作业条件是：时长设为30秒，抵抗加热的电流设为125安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10-4Torr；
第二层的五氧化三钛层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为420纳米，监控膜厚设为0.25QWOT，电子枪的电流设为409安培，充氧量设为28sccm，炉腔内真空系数设为0.8×10-4Torr；
第三层的二氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为420纳米，监控膜厚设为1.90QWOT，电子枪的电流设为150安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10-4Torr。
2.根据权利要求1所述的抗蓝光镜片的制作方法，其特征在于：该真空镀膜机是祥洲真空机器（股份）公司、龙翩实业有限公司生产的型号为LP-1200EBA的真空镀膜机。
3.根据权利要求1所述的抗蓝光镜片的制作方法，其特征在于：第一层的氧化硅层的蒸镀采用抵抗加热法实现，第二层的五氧化三钛层和第三层的二氧化硅层的蒸镀采用采用EB电子枪法实现。
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