[发明专利]用于镍-磷涂覆的存储磁盘的包含混杂研磨剂的抛光组合物有效
| 申请号： | 201310377657.5 | 申请日： | 2013-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN103627327A | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | R.洛皮塔亚;S.帕拉尼萨米钦纳萨姆比;H.西里沃达尼 | 申请（专利权）人： | 嘉柏微电子材料股份公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B29/00;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 发明提供用于镍-磷涂覆的存储磁盘的包含混杂研磨剂的抛光组合物，更具体地说，本发明提供包含(a)研磨剂和(b)水的抛光组合物，所述研磨剂包含(i)具有0.8:1-1.2:1的平均纵横比的第一α氧化铝颗粒、(ii)具有大于1.2:1的平均纵横比的第二α氧化铝、(iii)热解氧化铝颗粒和(iv)湿法二氧化硅颗粒。本发明还提供使用所述抛光组合物抛光基材、尤其是镍-磷基材的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 磷涂覆 存储 磁盘 包含 混杂 研磨剂 抛光 组合 | ||
【主权项】：
抛光组合物，其包含：(a)研磨剂，其包含：(i)第一α氧化铝颗粒，其中所述第一α氧化铝颗粒具有0.8:1‑1.2:1的平均纵横比，(ii)第二α氧化铝颗粒，其中所述第二α氧化铝颗粒具有大于1.2:1的平均纵横比，(iii)热解氧化铝颗粒，(iv)湿法二氧化硅颗粒，以及(b)水。
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