[发明专利]磁体表面处理方法无效
| 申请号： | 201310375713.1 | 申请日： | 2013-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN104419926A | 公开（公告）日： | 2015-03-18 |
| 发明（设计）人： | 王进东;张纪功;饶晓雷;胡伯平 | 申请（专利权）人： | 北京中科三环高技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C23C14/32;C23C22/48 |
| 代理公司： | 北京航忱知识产权代理事务所(普通合伙) 11377 | 代理人： | 陈立航;郭红燕 |
| 地址： | 100190 北京市海淀区中*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁体表面处理方法，该方法包括：真空离子镀膜的步骤；在含有三价铬酸盐的钝化液中对形成的镀膜进行钝化处理的步骤。本发明采用的真空离子蒸发镀膜法与纯蒸发镀膜法相比增加了离子源，使铝原子有较高的离化率，铝离子经负偏压电场加速，沉积到产品表面上时能量更大，从而生成无晶界连续镀层，且镀层与基体结合力良好，同时镀层能达到更为优良的防腐效果。此外，本发明还采用三价铬酸盐对真空离子蒸发镀铝后的产品进行钝化，从而使镀层具备很好的防腐能力，同时避免对环境产生污染。 | ||
| 搜索关键词： | 磁体 表面 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种磁体表面处理方法，包括：真空离子镀膜的步骤；在含有三价铬酸盐的钝化液中对形成的镀膜进行钝化处理的步骤。
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