[发明专利]掩模板清洗系统

摘要

本发明涉及一种掩模板清洗系统，包括第一清洗设备、第二清洗设备、第一漂洗设备和干燥设备；第一清洗设备包括电解清洗装置，电解清洗装置对掩模板进行清洗去除颗粒杂质；第二清洗设备包括低温清洗装置，低温清洗装置设置有用于冷却所述第二清洗液的冷却管，第一清洗设备、第二清洗设备、第一漂洗设备和干燥设备依次邻接设置。本发明根据清洗液的不同，采用不同的清洗装置对不同的杂质进行清洗，不仅可有效提高清洗效果，而且可以减少清洗液的损耗，提高清洗液的利用率，从而降低清洗成本。

主权项

一种掩模板清洗系统，所述掩模板具有蒸镀孔，其特征在于：包括用于清洗所述蒸镀孔处的颗粒杂质的第一清洗设备、用于清洗掩模板表面的有机发光材料残留物的第二清洗设备、用于漂洗掩模板的第一漂洗设备和用于干燥掩模板的干燥设备；所述第一清洗设备包括电解清洗装置，所述电解清洗装置内盛装有第一清洗液，所述第一清洗液为经电解后可产生高速气体的碱性电解液，所述高速气体带动所述清洗液对所述掩模板进行冲洗去除所述颗粒杂质；所述第二清洗设备包括低温清洗装置，所述低温清洗装置内盛装有易挥发性的第二清洗液，且所述低温清洗装置设置有用于冷却所述第二清洗液的冷却管，所述第一清洗设备、第二清洗设备、第一漂洗设备和干燥设备依次邻接设置。