[发明专利]掩模板清洗系统

说明书

技术领域

本发明涉及清洗设备技术领域，特别涉及一种掩模板清洗系统。

背景技术

有机电致发光器件，具有自发光、反应时间快、视角广、成本低、制造工艺简单、分辨率佳及高亮度等多项优点，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。在OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机电致发光二极管)技术中，用于真空蒸镀的掩模板是一项非常重要和关键的部件，该部件的质量直接影响OLED产品的质量和制造成本。

掩模板(Mask)，特别是细小网格的掩模板(Fine Mask)，在初加工成型后，会在网格内或表面残留金属边角料等颗粒物质，影响掩模板的正常使用。在循环使用的过程中，掩模板上会沾上有机发光材料等杂质，这些杂质将影响掩模板的精度或正常使用，在将掩模板再次投入使用前必须清除。

由于掩模板特别是Fine Mask对精度要求非常苛刻，例如，一般要求掩模板的网格大小误差在3μm内，因此，目前传统的清洗设备无法用于对FineMask或掩模板进行有效清洗，导致掩模板的使用成本大大增加，而且容易因清洗效果不佳而严重影响所生产出的OLED显示屏的质量，甚至会产生大量不良品，直接或间接地提高了OLED显示屏的生产成本。

发明内容

本发明的主要目的在于，针对上述现有技术中的不足，提供一种掩模板清洗系统，可有效清洗掩模板表面和蒸镀孔处的颗粒杂质，并且不会对掩模板造成任何伤害，也不会对掩模板的精度产生不利影响，从而在用于制造OLED显示屏产品时，显著提高产品的良品率。

为实现上述发明目的，本发明采用以下技术方案。

本发明提供的掩模板清洗系统100用于清洗掩模板200，掩模板200具有蒸镀孔，所述掩模板清洗系统包括用于清洗所述蒸镀孔处的颗粒杂质的第一清洗设备、用于清洗掩模板200表面的有机发光材料残留物的第二清洗设备、用于漂洗掩模板200的第一漂洗设备和用于干燥掩模板200的干燥设备；所述第一清洗设备包括电解清洗装置，所述电解清洗装置内盛装有第一清洗液，所述第一清洗液为经电解后可产生高速气体的碱性电解液，所述高速气体带动所述清洗液对所述掩模板200进行冲洗去除所述颗粒杂质；所述第二清洗设备包括低温清洗装置，所述低温清洗装置内盛装有易挥发性的第二清洗液，且所述低温清洗装置设置有用于冷却所述第二清洗液的冷却管，所述第一清洗设备、第二清洗设备、第一漂洗设备和干燥设备依次邻接设置。

优选地，还包括第二漂洗装置，所述第二漂洗装置邻接于所述第一清洗设备，对所述掩模板进行漂洗。

优选地，还包括机械手，所述机械手设置于一支架上，对所述掩模板进行转运。

优选地，所述第一清洗设备还包括第一净化装置，所述第二清洗设备还包括第二净化装置，所述第一净化装置和第二净化装置分别用于对所述第一清洗液和第二清洗液进行净化处理。

优选地，还包括电控箱，所述电控箱分别与所述第一清洗设备、第二清洗设备和干燥设备连接并对其进行控制。

优选地，还包括封闭外罩，所述第一清洗设备、第二清洗设备、第一漂洗设备、第二漂洗设备和干燥设备均设置于所述封闭外罩内。

优选地，所述掩模板容置于一洗篮内，所述机械手适于通过所述洗篮对所述掩模板进行转运。

优选地，所述电解清洗装置包括清洗池，在所述清洗池内至少设置有两个侧壁，所述掩模板浸泡于所述第一清洗液中，且位于所述两个侧壁之间；所述两个侧壁与第一电极连接，所述掩模板与第二电极连接，且所述第一电极与第二电极的极性相反。

优选地，所述电极由耐强碱导电材料制成，所述耐强碱导电材料包括钛合金、铅合金或石墨。

优选地，还包括适于装载掩模板料台，所述料台邻接于所述第一清洗设备。

本发明具有以下优点：

本发明利用电解清洗装置来去除掩模板上蒸镀孔处的颗粒杂质，利用低温清洗装置来去除掩模板表面的有机发光材料残留物，根据清洗液的不同，采用不同的清洗装置对不同的杂质进行清洗，不仅可有效提高清洗效果，而且可以减少清洗液的损耗，提高清洗液的利用率，从而降低清洗成本。而且，在清洗的过程中，本发明采用机械手对掩模板进行转运，可实现清洗过程的连续化和自动化控制，提高了清洗效率，并进一步降低了清洗成本。

附图说明

图1是本发明实施例中掩模板清洗系统的框架示意图。

图2是本发明实施例中掩模板清洗系统的结构示意图。

图3是本发明实施例中电解清洗装置的结构示意图。