[发明专利]沉积装置以及使用该装置制造有机发光显示器的方法在审
申请号: | 201310362008.8 | 申请日: | 2013-08-19 |
公开(公告)号: | CN103710682A | 公开(公告)日: | 2014-04-09 |
发明(设计)人: | 李相信 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;H01L51/56 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;王艳春 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 一种沉积装置,包括:沉积源,用于接收沉积材料;和多个喷嘴,沿着第一方向设置在沉积源的一侧以用于将沉积材料喷射到相对的基板上。沉积源包括:中心区域和外侧区域,其中外侧区域位于中心区域的、有关于第一方向的相应端部。喷嘴包括:第一喷嘴,设置在各个外侧区域并且从沉积源往向外延伸,形成第一喷嘴的一端部的表面在第一方向上与基板表面形成第一倾斜角。 | ||
搜索关键词: | 沉积 装置 以及 使用 制造 有机 发光 显示器 方法 | ||
【主权项】:
一种沉积装置,包括:沉积源,用于接纳沉积材料;以及多个喷嘴,沿着第一方向设置在所述沉积源的一侧以用于将所述沉积材料喷射到相对的基板上,其中,所述沉积源包括中心区域和多个外侧区域,其中所述外侧区域位于所述中心区域在所述第一方向上的相应端部;并且所述多个喷嘴包括多个第一喷嘴,所述第一喷嘴设置在所述多个外侧区域并且从所述沉积源向外延伸,其中用于形成每个所述第一喷嘴的一端部的表面在所述第一方向上与基板表面形成第一倾斜角。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的