[发明专利]沉积装置以及使用该装置制造有机发光显示器的方法在审
申请号: | 201310362008.8 | 申请日: | 2013-08-19 |
公开(公告)号: | CN103710682A | 公开(公告)日: | 2014-04-09 |
发明(设计)人: | 李相信 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;H01L51/56 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;王艳春 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积 装置 以及 使用 制造 有机 发光 显示器 方法 | ||
1.一种沉积装置,包括:
沉积源,用于接纳沉积材料;以及
多个喷嘴,沿着第一方向设置在所述沉积源的一侧以用于将所述沉积材料喷射到相对的基板上,
其中,
所述沉积源包括中心区域和多个外侧区域,其中所述外侧区域位于所述中心区域在所述第一方向上的相应端部;并且
所述多个喷嘴包括多个第一喷嘴,所述第一喷嘴设置在所述多个外侧区域并且从所述沉积源向外延伸,其中用于形成每个所述第一喷嘴的一端部的表面在所述第一方向上与基板表面形成第一倾斜角。
2.根据权利要求1所述的沉积装置,其中,
在所述第一方向上的所述基板的中心与在所述第一方向上的所述沉积源的中心对齐,并且
所述沉积源的所述中心区域在所述第一方向的长度满足如下条件:
其中,L1为在所述第一方向上的所述中心区域的长度;L2为在所述第一方向上的所述基板的沉积区域长度;T为所述基板与所述喷嘴的一端部之间的距离;以及θ为入射角。
3.根据权利要求1所述的沉积装置,其中,
所述第一倾斜角在43至53度范围内。
4.根据权利要求1所述的沉积装置,其中,
所述第一倾斜角在25至35度范围内。
5.根据权利要求3所述的沉积装置,其中,
设置在所述中心区域的所述多个第二喷嘴在所述沉积源的外侧方向上倾斜,从而使得用于形成各个所述第二喷嘴的一端部的表面在所述第一方向上相对于所述基板表面具有第二倾斜角,并且
所述第二倾斜角小于所述第一倾斜角。
6.根据权利要求1所述的沉积装置,其中,
在所述第一方向上,多个所述第一喷嘴相对于所述沉积源的中心被对称地设置。
7.一种有机发光显示器的制造方法,包括:
提供沉积装置,其包括用于接纳沉积材料的沉积源和沿着第一方向设置在所述沉积源的一侧以用于将所述沉积材料喷射到基板上的多个喷嘴;
将所述基板设置成面对所述喷嘴;以及
当在与第一方向相交的第二方向上移动所述沉积源期间,通过所述喷嘴喷射所述沉积材料,
其中,
所述沉积源包括中心区域和多个外侧区域,其中所述外侧区域位于所述中心区域在所述第一方向上的相应端部;并且
所述多个喷嘴的多个第一喷嘴设置在各个外侧区域,在所述第一方向上以第一倾斜角从所述沉积源喷射所述沉积材料。
8.根据权利要求7所述的方法,其中,
所述第一喷嘴包括:用于形成其一端部的表面,所述表面相对于所述基板的表面在外侧方向上倾斜,并且在所述第一方向上具有第一倾斜角。
9.根据权利要求7所述的方法,其中,
所述基板在所述第一方向上的中心与所述沉积源在所述第一方向上的中心对齐,并且
所述中心区域在所述第一方向上具有满足如下条件的长度:
其中,L1为在所述第一方向上的所述中心区域的长度;L2为在所述第一方向上的所述基板的沉积区域长度;T为所述基板与所述喷嘴的一端部之间的距离;以及θ为入射角。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的