[发明专利]磁记录介质用玻璃基板有效
申请号: | 201310347225.X | 申请日: | 2011-02-01 |
公开(公告)号: | CN103456321A | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 万波和夫;三代均;志田德仁;伊藤正文;增田裕之;百濑彻 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | G11B5/84 | 分类号: | G11B5/84;G11B5/73 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 高培培;车文 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种磁记录介质用玻璃基板及其制造方法,该磁记录介质用玻璃基板为在中心部具有圆孔的圆盘形状,其特征在于,所述磁记录介质用玻璃基板具有内周侧面、外周侧面及两主平面,磁记录介质用玻璃基板的所述两主平面的至少记录重放区域上的平行度为3.2μm以下。 | ||
搜索关键词: | 记录 介质 玻璃 | ||
【主权项】:
一种磁记录介质用玻璃基板,为在中心部具有圆孔,并具有内周侧面、外周侧面及两主平面的圆盘形状,其特征在于,使用双面研磨装置来研磨所述两主平面,该双面研磨装置为具有上平台及下平台的双面研磨装置,所述上平台及所述下平台为存在内周端和外周端的圆盘形状,在设所述内周端的所述上平台的研磨面与所述下平台的研磨面之间的距离为Din,并设所述外周端的所述上平台的研磨面与所述下平台的研磨面之间的距离为Dout时,从Dout减去Din后的ΔD(=Dout‑Din)为‑30μm~+23μm,使用激光干涉仪测定的磁记录介质用玻璃基板的至少记录重放区域上的两主平面的平行度为0.6μm以下,且通过光散射方式表面观察仪使用波长405nm的激光对所述主平面的外径侧区域进行测定的、具有40μm~5000μm之间的周期的微小波纹度为0.4nm以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭硝子株式会社,未经旭硝子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310347225.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。