[发明专利]一种用于对TCO层进行激光刻蚀后的基板玻璃的清洗工艺

摘要

一种用于对TCO层进行激光刻蚀后的基板玻璃的清洗工艺，该工艺是对经过第一次P1激光划线后的TCO基板玻璃进行清洗的清洗工艺方法，属于太阳能电池生产线第二道清洗工艺，主要通过预清洗、清洗剂喷淋、再次喷淋、漂洗及风刀烘干等工艺，去除经过P1激光划线后的TCO玻璃表面及线槽残留的微粒、碎屑等杂质，能够有效提高生产线后续工艺的镀膜质量，对提高电池的效率起到至关重要的作用。

主权项

一种用于对TCO层进行激光刻蚀后的基板玻璃的清洗工艺，其特征在于：本工艺是借助在TCO基板玻璃传送辊（9）上依次设置的预喷淋清洗腔室（1）、清洗剂喷淋清洗腔室（2）、再次喷淋清洗腔室（3）、漂洗腔室（4）及烘干腔室（5）实现的，所述的工艺步骤中包括：A、预喷淋清洗：将预喷淋清洗腔室（1）控制在常温状态下，将去离子水作为清洗液、将在TCO基板玻璃传送辊上、下方90‑110mm处分别设置的一组喷嘴组件作为清洗工具进行预喷淋，其中，每组喷嘴组件中包括18‑25个扇形喷嘴，每个喷嘴在0.12‑0.16Mpa压力下的流量为1‑1.1 L/Min；B、清洗剂喷淋清洗：将清洗剂喷淋清洗腔室（2）控制在45℃±2℃温度下，将在传送辊上、下方90‑110mm处分别设置的一组喷嘴组件作为清洗工具喷淋弱碱性清洗剂，其中，每组喷嘴组件中包括30‑35个扇形喷嘴，每个喷嘴在0.12‑0.16Mpa压力下的流量为1‑1.1 L/Min；C、再次喷淋清洗：将再次喷淋清洗腔室（3）控制在常温状态下，以去离子水作为清洗剂、将在传送辊上方90‑110mm处分别设置的一组喷嘴组件作为清洗工具进行再次喷淋清洗，其中，每组喷嘴组件中包括18‑25个扇形喷嘴，每个喷嘴在2‑3.5Mpa压力下的流量为1.18‑2.37 L/Min；D、漂洗：在漂洗腔室（4）中，将TCO基板玻璃上、下表面漂净；E、烘干：在烘干腔室（5）中，将TCO基板玻璃上、下表面烘干，完成整个清洗工艺过程。