[发明专利]一种用于对TCO层进行激光刻蚀后的基板玻璃的清洗工艺

权利要求书

1.一种用于对TCO层进行激光刻蚀后的基板玻璃的清洗工艺，其特征在于：本工艺是借助在TCO基板玻璃传送辊（9）上依次设置的预喷淋清洗腔室（1）、清洗剂喷淋清洗腔室（2）、再次喷淋清洗腔室（3）、漂洗腔室（4）及烘干腔室（5）实现的，所述的工艺步骤中包括：

A、预喷淋清洗：将预喷淋清洗腔室（1）控制在常温状态下，将去离子水作为清洗液、将在TCO基板玻璃传送辊上、下方90-110mm处分别设置的一组喷嘴组件作为清洗工具进行预喷淋，其中，每组喷嘴组件中包括18-25个扇形喷嘴，每个喷嘴在0.12-0.16Mpa压力下的流量为1-1.1 L/Min；

B、清洗剂喷淋清洗：将清洗剂喷淋清洗腔室（2）控制在45℃±2℃温度下，将在传送辊上、下方90-110mm处分别设置的一组喷嘴组件作为清洗工具喷淋弱碱性清洗剂，其中，每组喷嘴组件中包括30-35个扇形喷嘴，每个喷嘴在0.12-0.16Mpa压力下的流量为1-1.1 L/Min；

C、再次喷淋清洗：将再次喷淋清洗腔室（3）控制在常温状态下，以去离子水作为清洗剂、将在传送辊上方90-110mm处分别设置的一组喷嘴组件作为清洗工具进行再次喷淋清洗，其中，每组喷嘴组件中包括18-25个扇形喷嘴，每个喷嘴在2-3.5Mpa压力下的流量为1.18-2.37 L/Min；

D、漂洗：在漂洗腔室（4）中，将TCO基板玻璃上、下表面漂净；

E、烘干：在烘干腔室（5）中，将TCO基板玻璃上、下表面烘干，完成整个清洗工艺过程。

2.根据权利要求1所述的一种用于对TCO层进行激光刻蚀后的基板玻璃的清洗工艺，其特征在于：所述的再次喷淋清洗腔室（3）之后、漂洗腔室（4）之前还设置有辅助喷淋清洗腔室，在此基础上，所述步骤C之后、步骤D之前还设有如下工序：

C1、辅助喷淋清洗：将辅助喷淋清洗（8）控制在常温状态下，以去离子水作为清洗剂、将在传送辊上、下方90-110mm处分别设置的一组喷嘴组件作为清洗工具进行喷淋清洗，其中，每组喷嘴组件中包括18-25个扇形喷嘴，每个喷嘴在0.3-0.4Mpa压力下的流量为1-1.15 L/Min。

3.根据权利要求1所述的一种用于对TCO层进行激光刻蚀后的基板玻璃的清洗工艺，其特征在于：所述的漂洗腔室（4）的数量为2个，依次设置于再次喷淋清洗腔室（3）之后、烘干腔室（5）之前，将漂洗腔室（4）控制在常温下，以去离子水作为漂洗剂、将经过再次喷淋工序后的TCO基板玻璃传送辊上、下方90-110mm处分别设置的一组喷嘴组件作为清洗工具进行漂洗，其中，每组喷嘴组件中包括15-20个、1/4寸口径的、喷射角度为90°的扇形喷嘴，每个喷嘴在0.12-0.16Mpa压力下的流量为1-1.15 L/Min。

4.根据权利要求1所述的一种用于对TCO层进行激光刻蚀后的基板玻璃的清洗工艺，其特征在于：所述的烘干腔室（5）的数量为2个，依次设置于漂洗腔室（4）之后，在此基础上，所述的烘干工序步骤中包括：

E1、一级风刀吹扫烘干：在第一烘干腔室（5-1）中进行，利用传送辊上、下方0-8mm处分别设置的一级风刀（7）进行烘干，其中，一级风刀（7）与TCO基板玻璃行进方向的夹角为60°-80°，吹出的风温度为25~50℃，风量为200~700m³ /h；

E2、二级风刀吹扫烘干：在第二烘干腔室（5-2）中进行，利用传送辊上、下方0-8mm处分别设置的二级风刀（6）进行烘干，其中，二级风刀（6）与TCO基板玻璃行进方向的夹角为60°-80°，吹出的风温度为25~80℃，风量为200~700m³ /h。

5.根据权利要求1所述的一种用于对TCO层进行激光刻蚀后的基板玻璃的清洗工艺，其特征在于：所述的弱碱性清洗剂是浓度为2%~5%的NaOH、或KOH或TMAH清洗剂。

6.根据权利要求1、或2所述的一种用于对TCO层进行激光刻蚀后的基板玻璃的清洗工艺，其特征在于：所述的扇形喷嘴是材质为SUS303、口径为1/8寸、喷射角度为90°的扇形喷嘴。