[发明专利]取向溶液的纯化装置有效
申请号: | 201310328430.1 | 申请日: | 2010-12-24 |
公开(公告)号: | CN103421519A | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 蔡正国;洪焕毅;陈哲阳;许宗洲;蔡佳霖 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | C09K19/56 | 分类号: | C09K19/56 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明是提供一种取向溶液的纯化装置,所述装置包含:一反应槽,用以容置一取向溶液及一共沸溶剂;一水分去除系统,包含:一温度控制单元;及一减压单元,其中所述温度控制单元及所述减压单元用以控制所述反应槽的温度及压力,以去除所述取向溶液中的水;以及一金属离子去除系统,用以接收来自所述水分去除系统中的取向溶液,所述金属离子去除系统包含一吸附剂及一滤膜,其中所述滤膜位于所述反应槽的底部,且所述吸附剂位于所述滤膜之上。 | ||
搜索关键词: | 取向 溶液 纯化 装置 | ||
【主权项】:
一种取向溶液的纯化装置,所述装置包含:一反应槽,用以容置一取向溶液;一水分去除系统,用以去除所述取向溶液中的水,包含:一温度控制单元,用以控制所述反应槽的温度;及一减压单元,用以降低所述反应槽的压力;以及一金属离子去除系统,用以接收来自所述水分去除系统中的取向溶液,所述金属离子去除系统包含一吸附剂及一滤膜,其中所述滤膜位于所述反应槽的底部,且所述吸附剂位于所述滤膜之上。
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