[发明专利]取向溶液的纯化装置

权利要求书

1.一种取向溶液的纯化装置，所述装置包含：

一反应槽，用以容置一取向溶液；

一水分去除系统，用以去除所述取向溶液中的水，包含：

一温度控制单元，用以控制所述反应槽的温度；及

一减压单元，用以降低所述反应槽的压力；

以及

一金属离子去除系统，用以接收来自所述水分去除系统中的取向溶液，所述金属离子去除系统包含一吸附剂及一滤膜，其中所述滤膜位于所述反应槽的底部，且所述吸附剂位于所述滤膜之上。

2.如权利要求1所述的取向溶液的纯化装置，其中所述吸附剂包含纯度99％以上的氧化铝或硅酸铝或前两者的混合物。

3.如权利要求1所述的取向溶液的纯化装置，其中所述反应槽还用以容置一共沸溶剂，所述共沸溶剂包含甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、正丁醇、异戊醇、二恶烷、四氢呋喃、丙酮、乙晴、甲基异丁酮或前述的组合。

4.如权利要求3所述的取向溶液的纯化装置，其中所述温度控制单元和所述减压单元用以控制所述反应槽的温度和压力至使所述反应槽中的取向溶液的水和共沸溶剂达到共沸。

5.如权利要求4所述的取向溶液的纯化装置，其中所述水分去除系统还包含一冷凝单元，用以去除达到共沸后的水和共沸溶剂。

6.如权利要求5所述的取向溶液的纯化装置，其中所述冷凝单元设于所述减压单元中。

7.如权利要求1所述的取向溶液的纯化装置，其中所述反应槽中的压力小于30Torr，且温度介于20℃至50℃。

8.如权利要求1所述的取向溶液的纯化装置，其中所述吸附剂包含纯度99％以上的氧化铝或硅酸铝或前两者的组合。

9.如权利要求1所述的取向溶液的纯化装置，其中所述滤膜包含一不锈钢板位于多层微孔滤膜上，其中所述不锈钢板的孔径介于0.1mm至0.5mm之间，所述微孔滤膜的孔径介于0.2至0.8μm之间。

10.如权利要求1所述的取向溶液的纯化装置，其中所述多层微孔滤膜由聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、聚偏氟乙烯或前述的组合组成。