[发明专利]放射线敏感性树脂组合物、抗蚀图案形成方法、聚合物和聚合性化合物有效
| 申请号： | 201310320010.9 | 申请日： | 2010-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN103472674B | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 浅野裕介;佐藤光央;中岛浩光;笠原一树;大泉芳史;堀雅史;川上峰规;松田恭彦;中原一雄 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;C08F20/22 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 左嘉勋,顾晋伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、‑CO‑O‑*或者‑SO2‑O‑*(“*”表示与R1结合的结合位点)]。 | ||
| 搜索关键词： | 放射线 敏感性 树脂 组合 图案 形成 方法 聚合物 聚合 化合物 | ||
【主权项】：
一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有：具有酸解离性基团的聚合物(A)、通过放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(c2‑1)表示的重复单元和氟原子的聚合物(C)，所述聚合物(C)为氟原子含有比例比所述聚合物(A)高的聚合物；通式(c2‑1)中，n表示1～3的整数；R表示氢原子、甲基或者三氟甲基；R2表示单键、碳原子数为1～10的2价链状烃基或者碳原子数为4～20的2价环状烃基；R3表示碳原子数为1～20的(n+1)价的链状结构的烃基、或者碳原子数为1～20的从脂环式烃中除去(n+1)个氢原子而得的结构的(n+1)价的烃基，还包括在R2侧的末端结合有氧原子、硫原子、亚氨基、羰基、‑CO‑O‑或者‑CO‑NH‑的结构；X1表示单键、二氟亚甲基或者碳原子数为2～20的直链状或支链状的全氟亚烷基；R8表示至少一个氢原子被取代为氟原子的碳原子数为1～10的氟取代烃基。
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