[发明专利]使用极UV射线且具有包括吸气材料的挥发性有机化合物吸收构件的光刻设备有效
| 申请号： | 201310276167.6 | 申请日： | 2009-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN103345127A | 公开（公告）日： | 2013-10-09 |
| 发明（设计）人： | P·玛尼尼;A·孔特 | 申请（专利权）人： | 工程吸气公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 钱亚卓 |
| 地址： | 意大*** | 国省代码： | 意大利;IT |
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| 摘要： | 公开了一种光刻设备（10），该光刻设备使用极UV射线且具有布置在所述设备的处理腔（13）中的包括吸气材料的烃吸收构件。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 uv 射线 具有 包括 吸气 材料 挥发性 有机化合物 吸收 构件 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种使用极紫外射线的光刻设备（10），所述光刻设备具有包括支承件的真空处理腔，其特征在于：所述光刻设备具有挥发性有机化合物吸收构件（21；31；41），所述有机化合物吸收构件包括布置在所述真空处理腔（13）中或布置在通过适当开口与所述真空处理腔连接的适当空间中的吸气材料。
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