[发明专利]使用极UV射线且具有包括吸气材料的挥发性有机化合物吸收构件的光刻设备

权利要求书

1.一种使用极紫外射线的光刻设备（10），所述光刻设备具有包括支承件的真空处理腔，其特征在于：所述光刻设备具有挥发性有机化合物吸收构件（21；31；41），所述有机化合物吸收构件包括布置在所述真空处理腔（13）中或布置在通过适当开口与所述真空处理腔连接的适当空间中的吸气材料。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述有机化合物吸收构件是包括吸气泵支承件（23）的吸气泵（22），所述吸气泵通过形成在所述处理腔的壁（20）中的开口（21）插入所述真空处理腔（13）中，并且所述吸气泵通过承载所述吸气泵支承件（23）的凸缘（25）连接到所述壁。

3.如权利要求1所述的设备，其中所述有机化合物吸收构件是布置在侧腔中的吸气泵，所述侧腔位于所述真空处理腔的外部但是通过所述开口与所述真空处理腔连通。

4.如权利要求1所述的设备，其中所述有机化合物吸收构件是包括多个盘（24）的吸气泵（22），所述盘（24）由吸气材料制成且固定到中心吸气泵支承件（23）。

5.如权利要求1所述的设备，其中所述有机化合物吸收构件是包括多个盘（24）和加热元件的吸气泵（22），所述盘由吸气材料制成，所述吸气盘被固定到所述加热元件上。

6.如权利要求1所述的设备，其中所述有机化合物吸收构件是包括多个盘和加热元件的吸气泵，所述盘由吸气材料制成，所述吸气盘围绕所述加热元件设置而不固定到所述加热元件上。

7.如权利要求1所述的设备，其中所述有机化合物吸收构件是在金属表面上的吸气材料沉积物。

8.如权利要求1所述的设备，其中吸气材料选自钛、锆、钒、铌或铪，或带有至少另一元素的基于钛和/或基于锆的合金，所述另一元素选自过渡元素、稀土元素和铝。