[发明专利]产生将提供给聚焦超声治疗设备的治疗计划的方法和设备在审
| 申请号： | 201310272009.3 | 申请日： | 2013-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN103537017A | 公开（公告）日： | 2014-01-29 |
| 发明（设计）人： | 安民修;方远喆 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | A61N7/02 | 分类号： | A61N7/02 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 韩明星;郭鸿禧 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种产生将提供给聚焦超声治疗设备的治疗计划的方法和设备。所述方法包括：接收将被超声辐射到的目标区域来作为输入；确定由聚焦超声治疗设备辐射的单个超声的焦斑的尺寸；基于确定的焦斑的尺寸来确定焦斑的位置，使得目标区域中的将被超声依次辐射到的每个焦斑的位置距先前已被超声辐射到的焦斑的位置最远；基于焦斑的尺寸和焦斑的位置来确定超声辐射的持续时间和强度；基于焦斑的尺寸、焦斑的位置以及超声辐射的持续时间和强度，产生用于由聚焦超声治疗设备辐射超声的治疗计划。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 提供给 聚焦 超声 治疗 设备 计划 方法 | ||
【主权项】：
一种产生将被提供给聚焦超声治疗设备的治疗计划的方法，所述方法包括：接收将被超声辐射到的目标区域来作为输入；确定由聚焦超声治疗设备辐射的单个超声的焦斑的尺寸；基于确定的焦斑的尺寸来确定焦斑的位置，使得目标区域中的将被超声依次辐射到的每个焦斑的位置距先前已被超声辐射到的焦斑的位置最远；基于焦斑的尺寸和焦斑的位置来确定超声辐射的持续时间和强度；基于焦斑的尺寸、焦斑的位置以及超声辐射的持续时间和强度，产生用于由聚焦超声治疗设备辐射超声的治疗计划。
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