[发明专利]产生将提供给聚焦超声治疗设备的治疗计划的方法和设备在审
| 申请号: | 201310272009.3 | 申请日: | 2013-07-01 |
| 公开(公告)号: | CN103537017A | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
| 发明(设计)人: | 安民修;方远喆 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
| 主分类号: | A61N7/02 | 分类号: | A61N7/02 |
| 代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩明星;郭鸿禧 |
| 地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 产生 提供给 聚焦 超声 治疗 设备 计划 方法 | ||
1.一种产生将被提供给聚焦超声治疗设备的治疗计划的方法,所述方法包括:
接收将被超声辐射到的目标区域来作为输入;
确定由聚焦超声治疗设备辐射的单个超声的焦斑的尺寸;
基于确定的焦斑的尺寸来确定焦斑的位置,使得目标区域中的将被超声依次辐射到的每个焦斑的位置距先前已被超声辐射到的焦斑的位置最远;
基于焦斑的尺寸和焦斑的位置来确定超声辐射的持续时间和强度;
基于焦斑的尺寸、焦斑的位置以及超声辐射的持续时间和强度,产生用于由聚焦超声治疗设备辐射超声的治疗计划。
2.如权利要求1所述的方法,其中,在确定焦斑的位置的步骤中,确定首先将被超声辐射到的第一焦斑的位置以及接着第一焦斑将被超声辐射到的第二焦斑的位置,使得第二焦斑的位置在目标区域内距第一焦斑的位置最远。
3.如权利要求2所述的方法,其中,在确定焦斑的位置的步骤中,基于第一焦斑的位置和第二焦斑的位置来确定接着第二焦斑将被超声辐射到的第三焦斑的位置,使得第三焦斑的位置在目标区域内距第一焦斑的位置和第二焦斑的位置最远。
4.如权利要求2所述的方法,其中,由于第二焦斑的位置距第一焦斑的位置最远,因此由辐射到第一焦斑的超声所导致的热剂量对第二焦斑的影响被最小化,由此到第一焦斑的超声的辐射与到第二焦斑的超声的辐射之间的冷却时间间隔被最小化。
5.如权利要求1所述的方法,还包括:估计将被超声辐射到的目标区域和焦斑的温度以及热剂量,
其中,基于估计的温度和热剂量确定焦斑的位置。
6.如权利要求1所述的方法,还包括:将产生的治疗计划输出到聚焦超声治疗设备。
7.一种用于产生将被提供给聚焦超声治疗设备的治疗计划的治疗计划产生设备,所述治疗计划产生设备包括:
输入接口,用于接收将被超声辐射到的目标区域来作为输入;
第一确定单元,用于确定由聚焦超声治疗设备辐射的单个超声的焦斑的尺寸;
第二确定单元,用于基于确定的焦斑的尺寸确定焦斑的位置,使得目标区域中的将被超声依次辐射到的每个焦斑的位置距先前已被超声辐射到的焦斑的位置最远;
第三确定单元,用于基于焦斑的尺寸和焦斑的位置来确定超声辐射的持续时间和强度;
计划产生单元,用于基于焦斑的尺寸、焦斑的位置以及超声辐射的持续时间和强度,产生用于由聚焦超声治疗设备辐射超声的治疗计划。
8.如权利要求7所述的治疗计划产生设备,其中,第二确定单元确定首先将被超声辐射到的第一焦斑的位置,确定接着第一焦斑将被超声辐射到的第二焦斑的位置,使得第二焦斑的位置距第一焦斑的位置最远,并且第二确定单元基于第一焦斑的位置和第二焦斑的位置来确定接着第二焦斑将被超声辐射到的第三焦斑的位置,使得第三焦斑的位置距第一焦斑的位置和第二焦斑的位置最远。
9.如权利要求8所述的治疗计划产生设备,其中,由于第二焦斑的位置距第一焦斑的位置最远,因此由辐射到第一焦斑的超声所导致的热剂量对第二焦斑的影响被最小化,由此到第一焦斑的超声的辐射与到第二焦斑的超声的辐射之间的冷却时间间隔被最小化。
10.如权利要求7所述的治疗计划产生设备,还包括:估计单元,用于估计先前已被超声辐射到的目标区域和焦斑的温度以及热剂量,
其中,第二确定单元基于估计的温度和热剂量来确定焦斑的位置。
11.如权利要求7所述的治疗计划产生设备,还包括:输出接口,用于将产生的治疗计划输出到聚焦超声治疗设备。
12.一种聚焦超声治疗设备,包括:
图像产生单元,用于产生将被超声辐射到的目标区域的图像;
处理器,用于确定辐射到目标区域的单个超声的焦斑的尺寸,基于确定的焦斑的尺寸确定焦斑的位置,使得目标区域中的将被超声依次辐射到的每个焦斑的位置距先前已被超声辐射到的焦斑的位置最远,并基于焦斑的尺寸和焦斑的位置来确定超声辐射的持续时间和强度;
换能器,用于基于产生的图像,根据焦斑的尺寸、焦斑的位置以及超声辐射的持续时间和强度来辐射超声。
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