[发明专利]一种基体表面纳米复合Me-Si-N超硬涂层的制备方法

摘要

本发明提供了一种纳米复合Me-Si-N（Me=Ti、Cr、Zr、W等）超硬涂层的制备方法，该方法利用高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）技术，通过优化工艺参数，反应磁控溅射制备Me-Si-N纳米复合超硬涂层。与现有制备技术相比，该技术能够获得高硬度并且低表面粗糙度的Me-Si-N纳米复合涂层，是一种具有良好应用前景的制备技术。

主权项

一种基体表面纳米复合Me‑Si‑N超硬涂层的制备方法，其特征是：采用高功率脉冲磁控溅射技术，具体过程为：把清洗烘干后的基体放入真空腔体中，通入Ar气，向基体施加脉冲负偏压，对基体进行刻蚀；刻蚀结束后，开启高功率脉冲磁控溅射源，溅射MeSi复合靶材沉积MeSi过渡层；然后，保持溅射条件不变，向腔体内通入N2气体，反应沉积Me‑Si‑N纳米复合超硬涂层；所述的MeSi过渡层和Me‑Si‑N纳米复合超硬涂层的沉积过程中，高功率脉冲磁控溅射电源为直流电源与脉冲电源并联的模式；所述的Me‑Si‑N纳米复合超硬涂层的沉积过程中，直流电流为1A～5A，脉冲电压为400V～2000V，脉冲频率为30Hz～500Hz，脉冲宽度为20μs～1000μs。