[发明专利]高纯中空硅材料、多晶硅铸锭硅真空固液分离方法及设备有效

专利信息
申请号: 201310209897.4 申请日: 2013-05-31
公开(公告)号: CN103266349A 公开(公告)日: 2013-08-28
发明(设计)人: 姜大川;任世强;石爽;谭毅;邱介山 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: C30B28/06 分类号: C30B28/06;C30B29/06;C30B29/60
代理公司: 大连星海专利事务所 21208 代理人: 徐淑东
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明提供一种高纯中空硅材料、多晶硅铸锭硅真空固液分离方法及设备,本发明多晶硅铸锭硅真空固液分离方法包括以下步骤:将硅料在容器内熔化成熔融硅料;拉锭至熔融硅料中硅料长晶率达到80~90%时,抽真空使熔融硅料表面形成凝固壳体;抽真空的同时,采用压杆在壳体上穿孔,所述壳体内部硅液在负压的作用下从孔中流出至壳体表面,待熔体全部流出停止压杆在壳体上穿孔,流出的硅液在壳体上凝固,实现富集杂质铸锭和较高纯度铸锭的分离。本发明还能抑制富集杂质的反向扩散,同时更可方便切除定向凝固提纯得到的富集杂质的铸锭,提高多晶硅生产中的出成率。
搜索关键词: 高纯 中空 材料 多晶 铸锭 真空 分离 方法 设备
【主权项】:
一种多晶硅铸锭硅真空固液分离方法,其特征在于,包括以下步骤: 将硅料在容器内熔化成熔融硅料;拉锭至熔融硅料中硅料长晶率达到80~90%时,抽真空使熔融硅料表面形成凝固壳体;抽真空的同时,采用压杆在壳体上穿孔,所述壳体内部硅液在负压的作用下从孔中流出至壳体表面,待硅液全部流出停止压杆在壳体上穿孔,流出的熔体在壳体上凝固,实现富集杂质铸锭和较高纯度铸锭的分离。
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