[发明专利]具有复合偏光片的光掩膜与优化不同图案的成像方法在审
| 申请号: | 201310209753.9 | 申请日: | 2013-05-30 |
| 公开(公告)号: | CN103472671A | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
| 发明(设计)人: | 史考特·莱特;丹·米尔沃德;安东·德维利尔斯;何元;麦可·凯悦;勾力晶;卡弗里·詹;张自淑;周建明 | 申请(专利权)人: | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/32 | 分类号: | G03F1/32;G03F1/76 |
| 代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀纯 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种具有复合偏光片的光掩膜,其结构包括透明基板、位于透明基板上的图案化层、以及位于透明基板上的偏光过滤组件。透明基板对于照明光实质上是透明的、图案化层对于照明光实质上至少是部份不透明的、而偏光过滤组件得以选择性地极化/偏振照明光。 | ||
| 搜索关键词: | 具有 复合 偏光 光掩膜 优化 不同 图案 成像 方法 | ||
【主权项】:
一种具有复合偏光片的光掩膜,其特征在于,包含:一透明基板;位于所述透明基板上的一图案化层;以及位于所述透明基板上的一偏光过滤组件,其中所述透明基板对于一照明光是透明的,所述图案化层对于所述照明光至少是部分不透明的,而所述偏光过滤组件得以选择性地极化偏光所述照明光。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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