[发明专利]具有复合偏光片的光掩膜与优化不同图案的成像方法在审

专利信息
申请号: 201310209753.9 申请日: 2013-05-30
公开(公告)号: CN103472671A 公开(公告)日: 2013-12-25
发明(设计)人: 史考特·莱特;丹·米尔沃德;安东·德维利尔斯;何元;麦可·凯悦;勾力晶;卡弗里·詹;张自淑;周建明 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: G03F1/32 分类号: G03F1/32;G03F1/76
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 江耀纯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种具有复合偏光片的光掩膜,其结构包括透明基板、位于透明基板上的图案化层、以及位于透明基板上的偏光过滤组件。透明基板对于照明光实质上是透明的、图案化层对于照明光实质上至少是部份不透明的、而偏光过滤组件得以选择性地极化/偏振照明光。
搜索关键词: 具有 复合 偏光 光掩膜 优化 不同 图案 成像 方法
【主权项】:
一种具有复合偏光片的光掩膜,其特征在于,包含:一透明基板;位于所述透明基板上的一图案化层;以及位于所述透明基板上的一偏光过滤组件,其中所述透明基板对于一照明光是透明的,所述图案化层对于所述照明光至少是部分不透明的,而所述偏光过滤组件得以选择性地极化偏光所述照明光。
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