[发明专利]具有复合偏光片的光掩膜与优化不同图案的成像方法

权利要求书

1.一种具有复合偏光片的光掩膜，其特征在于，包含：

一透明基板；

位于所述透明基板上的一图案化层；以及

位于所述透明基板上的一偏光过滤组件，其中所述透明基板对于一照明光是透明的，所述图案化层对于所述照明光至少是部分不透明的，而所述偏光过滤组件得以选择性地极化偏光所述照明光。

2.根据权利要求1所述的具有复合偏光片的光掩膜，其特征在于，所述偏光过滤组件是导电的。

3.根据权利要求2所述的具有复合偏光片的光掩膜，其特征在于，所述偏光过滤组件是一种线栅偏光片。

4.根据权利要求1所述的具有复合偏光片的光掩膜，其特征在于，所述偏光过滤组件具有特定的线距和线宽。

5.根据权利要求4所述的具有复合偏光片的光掩膜，其特征在于，所述照明光具有入射波长，而且所述线距小于所述入射波长。

6.根据权利要求4所述的具有复合偏光片的光掩膜，其特征在于，所述线宽小于40纳米。

7.根据权利要求4所述的具有复合偏光片的光掩膜，其特征在于，所述线距介于80纳米到120纳米之间。

8.根据权利要求2所述的具有复合偏光片的光掩膜，其特征在于，所述偏光过滤组件的层邻近所述透明基板上的图案化层，或是所述偏光过滤组件的层位于所述透明基板上的图案化层之内。

9.一种具有复合偏光片的光掩膜，其特征在于，包含：

一透明基板；

位于所述透明基板上的一图案化层；以及

位于所述透明基板上的多个偏光过滤组件，其中所述透明基板对于一照明光是透明的，所述图案化层对于所述照明光至少是部分不透明的，而所述偏光过滤组件得以选择性地极化偏光所述照明光。

10.根据权利要求9所述的具有复合偏光片的光掩膜，其特征在于，所述偏光过滤组件包括导电的一第一偏光过滤组件和一第二偏光过滤组件。

11.根据权利要求10所述的具有复合偏光片的光掩膜，其特征在于，所述第一偏光过滤组件和所述第二偏光过滤组件的至少其中一者是一种线栅偏光片。

12.根据权利要求10所述的具有复合偏光片的光掩膜，其特征在于，所述偏光过滤组件具有特定的线距和线宽

13.根据权利要求10所述的具有复合偏光片的光掩膜，其特征在于，另包括：

一第一图案的一第一区域，位于所述图案化层之内，并具有所述第一偏光过滤组件；以及

一第二图案的一第二区域，位于所述图案化层之内，并具有所述第二偏光过滤组件，其中所述第一图案与所述第二图案是不同的。

14.一种同时优化一组不同的图案的成像方法，其特征在于，包含：

提供一光掩膜和一照明光，所述光掩膜包括：

一透明基板；

位于所述透明基板上的一图案化层；以及

位于所述透明基板上的多个偏光过滤组件，其中所述透明基板对于一照明光是透明的，所述图案化层对于所述照明光至少是部分不透明的，而所述偏光过滤组件得以部分地过滤掉所述照明光；以及

将所述照明光通过所述偏光过滤组件和所述图案化层，使得所述照明光被选择性地偏光极化，而有利于所述第一图案与所述第二图案之成像。

15.根据权利要求14所述的同时优化一组不同的图案的成像方法，其特征在于，所述照明光通过所述第一区域与所述第二区域后，分别被差异地极化。

16.根据权利要求14所述的同时优化一组不同的图案的成像方法，其特征在于，所述偏光过滤组件包括导电且不同偏振位向的一第一偏光过滤组件和一第二偏光过滤组件。

17.根据权利要求14所述的同时优化一组不同的图案的成像方法，其特征在于，所述偏光过滤组件局部地偏光所述照明光。

18.根据权利要求16所述的同时优化一组不同的图案的成像方法，其特征在于，所述第一偏光过滤组件和所述第二偏光过滤组件的至少其中一者是一种线栅偏光片。