[发明专利]一种全氮化物耐候性光热涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 201310202827.6 | 申请日： | 2013-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN103267379A | 公开（公告）日： | 2013-08-28 |
| 发明（设计）人： | 欧阳俊;冯君校;卢郁;王现洋 | 申请（专利权）人： | 欧阳俊 |
| 主分类号： | F24J2/48 | 分类号： | F24J2/48;C23C14/00 |
| 代理公司： | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人： | 崔苗苗 |
| 地址： | 250061 山东省济南市*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及全氮化物耐候性光热涂层及其制备方法，以铜、铝或铁素体不锈钢作为基材，依次包括第一吸收亚层、第二吸收亚层、氮化硅减反层，先通氩气和氮气以铜、铝或铁素体不锈钢作为基材，以TiAl为靶材直流溅射，再使基材位于TiAl靶材和Si靶材两靶材之间共溅射，再使基材正对Si靶材溅射。本发明所制备吸收层，有两个吸收亚层组成，相对于传统膜系中的多层（≥3）梯度结构生产工艺更为简便，且为无氧涂层体系，耐候性好，适合在国内太阳能光热产业现有的真空镀膜设备上推广，可用于制备平板太阳能集热板芯，应用前景良好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氮化物 耐候性 光热 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种全氮化物耐候性光热涂层，其特征是，以铜、铝或铁素体不锈钢作为基材，依次包括第一吸收亚层、第二吸收亚层、氮化硅减反层，第一吸收亚层沉积30‑150nm，第二吸收亚层沉积30‑150nm，第二吸收亚层中的金属含量低于第一吸收亚层，氮化硅减反层沉积厚度为20‑60nm。
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