[发明专利]一种全氮化物耐候性光热涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种全氮化物耐候性光热涂层，其特征是，以铜、铝或铁素体不锈钢作为基材，依次包括第一吸收亚层、第二吸收亚层、氮化硅减反层，第一吸收亚层沉积30-150nm，第二吸收亚层沉积30-150nm，第二吸收亚层中的金属含量低于第一吸收亚层，氮化硅减反层沉积厚度为20-60nm。

2.根据权利要求1所述的一种全氮化物耐候性光热涂层，其特征是，以铁素体不锈钢作为基材。

3.一种全氮化物耐候性光热涂层的制备方法，包括步骤如下：

（1）以铜、铝或铁素体不锈钢作为基材，以TiAl为靶材，向腔室内注入流量35-45sccm的氩气，调节腔室压强在0.3-0.6Pa，再注入流量为2-5sccm的氮气，直流溅射功率100-120w，基材针对靶材溅射8-12分钟；靶材与基片架中心轴距离为10cm；

（2）改变基材位置，使基材位于TiAl靶材和Si靶材两靶材之间，同时保持基材自转速度10-20转/分钟，改变通氮气流量为18-24sccm，TiAl靶材功率为100-120w，Si靶材功率为85-100w，共溅射12-18分钟；

（3）改变基材位置，使基材正对Si靶材，靶材与基片架中心轴距离为10cm，同时保持基材自转速度10-20转/分钟，通氮气流量为18-24sccm，Si靶材功率为85-100w，溅射13-18分钟，制备减反层。