[发明专利]一种玻璃基板减薄蚀刻方法有效
| 申请号： | 201310202282.9 | 申请日： | 2013-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN103241957A | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 陈必盛 | 申请（专利权）人： | 湖北优尼科光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址： | 432500 湖北省孝感市云*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种玻璃基板减薄蚀刻方法，该蚀刻方法依次通过玻璃基板装夹、一次超声波清洗、蚀刻、二次超声波清洗、以及烘干的步骤完成玻璃基板蚀刻加工，一次超声波清洗时间为1-1.5分钟，蚀刻时间为8-15分钟，二次超声波清洗时间为2-3分钟，其中，蚀刻所使用的蚀刻剂包括20%-35%氢氟酸、10%-25%硫酸以及45%-65%水。该蚀刻方法能够有效地提高液晶显示器玻璃基板的蚀刻质量，蚀刻品质好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 玻璃 基板减薄 蚀刻 方法 | ||
【主权项】：
一种玻璃基板减薄蚀刻方法，其特征在于，包括有以下工艺步骤，具体为：a、将玻璃基板放置于提篮；b、将装好玻璃基板的提篮放置于第一超声波清洗槽内，清洗时间为1‑1.5分钟；c、将经过第一次清洗后的玻璃基板随提篮放置于蚀刻槽内，蚀刻槽通过循环泵体连续地供给蚀刻剂，玻璃基板于蚀刻槽内的蚀刻时间为8‑15分钟，其中，蚀刻槽内的蚀刻剂包括有以下重量份的组分，具体为：氢氟酸 20%‑35%硫酸 10%‑25%水 45%‑65%；d、将经过蚀刻处理后的玻璃基板随提篮放置于第二超声波清洗槽内，清洗时间为2‑3分钟；e、将经过第二次清洗后的玻璃基板随提篮放置于烘干器内，直至玻璃基板烘干为止。
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