[发明专利]一种阵列式多光谱滤光片及其制作方法有效
申请号: | 201310180095.5 | 申请日: | 2013-05-16 |
公开(公告)号: | CN103245996A | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 吴一辉;周文超;郝鹏;李凯伟;刘桂根;刘永顺 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 南小平 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明涉及一种阵列式多光谱滤光片及其制作方法,属于微纳米滤光片领域。解决现有微流控芯片中多通道阵列化检测的集成化问题。该滤光片只包括二维金属光栅层、缓冲层、波导层和基底四层结构。本发明还提供了滤光片的制作方法,是利用二维金属光栅的导模共振原理,通过调节光栅周期实现不同波长的选择。通过缓冲层的厚度还可以调节透过波长的半波带宽。通过调节二维金属光栅层的合适的占空比,可以减少旁瓣。因此,本发明的方法制作的阵列式多光谱滤光片相对于其他可调谐滤光片来说,具有结构简单、旁瓣低、半波带宽可调、透过率高、与偏振无关等突出优点。应用本发明的滤光片,能够实现微流控芯片的集成化。 | ||
搜索关键词: | 一种 阵列 光谱 滤光 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种阵列式多光谱滤光片,该阵列式多光谱滤光片包括四层结构,其结构由上到下依次为二维金属光栅层、缓冲层、波导层和基底;其特征在于,所述基底材料与缓冲层材料相同;所述波导层的厚度H范围为:0~hmax,hmax为模序数m=1时最小工作波长对应的波导层截止厚度,计算公式如下: h max = λ min 2 n 2 - n s 2 ; 式中λmin为最小工作波长;n为波导层材料的折射率,ns为基底材料的折射率,并且n>ns;所述波导层材料的折射率大于缓冲层材料的折射率;所述二维金属光栅层材料的反射率大于90%。
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