[发明专利]一种阵列式多光谱滤光片及其制作方法

权利要求书

1.一种阵列式多光谱滤光片，该阵列式多光谱滤光片包括四层结构，其结构由上到下依次为二维金属光栅层、缓冲层、波导层和基底；其特征在于，

所述基底材料与缓冲层材料相同；

所述波导层的厚度H范围为：0～h_max，h_max为模序数m=1时最小工作波长对应的波导层截止厚度，计算公式如下：

hmax=λmin2n2-ns2;]]>

式中λ_min为最小工作波长；

n为波导层材料的折射率，n_s为基底材料的折射率，并且n＞n_s；

所述波导层材料的折射率大于缓冲层材料的折射率；

所述二维金属光栅层材料的反射率大于90%。

2.如权利要求1所述的阵列式多光谱滤光片，其特征在于，所述的二维金属光栅层材料为金，铝或银。

3.如权利要求1所述的阵列式多光谱滤光片，其特征在于，所述基底材料与缓冲层材料为二氧化硅、PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）和PC（聚碳酸酯）中的一种；所述波导层材料为二氧化钛、氧化铝、硫化锌、氮化硅和硒化锌中的一种。

4.如权利要求1所述的阵列式多光谱滤光片，其特征在于，所述的二维金属光栅层的占空比为0.8～0.9。

5.如权利要求4所述的阵列式多光谱滤光片，其特征在于，所述的二维金属光栅层的占空比为0.85。

6.如权利要求1所述的阵列式多光谱滤光片的制作方法，其特征在于，该制作方法包括以下步骤：

步骤一、在基底上制作波导层，波导层的厚度H范围为：0～h_maxμm，h_max为模序数m=1时最小工作波长对应的波导层截止厚度，计算公式如下：

hmax=λmin2n2-ns2;]]>

式中λ_min为最小工作波长；

n为波导层材料的折射率，n_s为基底材料的折射率，并且n＞n_s；

步骤二、在波导层上制作缓冲层；波导层材料的折射率大于缓冲层材料的折射率；

步骤三、在缓冲层上制作二维金属光栅层；二维金属光栅层材料的反射率大于90%。

7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述的二维金属光栅层材料为金，铝或银。

8.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述基底材料与缓冲层材料为二氧化硅、PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）和PC（聚碳酸酯）中的一种；所述波导层材料为二氧化钛、氧化铝、硫化锌、氮化硅和硒化锌中的一种。

9.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，步骤三中所述的二维金属光栅层的占空比为0.8～0.9。

10.如权利要求9所述的制作方法，其特征在于，步骤三中所述的二维金属光栅层的占空比为0.85。