[发明专利]一种非均匀采样综合孔径辐射计的图像反演方法有效
申请号: | 201310176506.3 | 申请日: | 2013-05-13 |
公开(公告)号: | CN103323845A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 李青侠;丰励 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G01S13/90 | 分类号: | G01S13/90 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 朱仁玲 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了非均匀采样综合孔径辐射计的图像反演方法,包括根据天线单元的位置坐标计算非均匀采样点的位置,并获得非均匀采样点的可见度函数的值;根据非均匀采样点的位置将空间频率域分割成多个区域,并计算每个区域的面积;根据每个区域的面积对非均匀采样点的可见度函数的值进行离散卷积运算,获得均匀采样点的可见度函数的值;对均匀采样点的可见度函数的值进行傅里叶逆变换,获得观测空间的中间亮温分布图像;根据中间亮温分布图像和窗函数的傅里叶逆变换的结果获得修正场景亮温图像;根据修正场景亮温图像和观测场景亮温的倾斜因子的倒数获得观测场景亮温图像。本发明能快速,高效,精确地反演非均匀采样综合孔径辐射计的场景亮温分布图像。 | ||
搜索关键词: | 一种 均匀 采样 综合 孔径 辐射计 图像 反演 方法 | ||
【主权项】:
一种非均匀采样综合孔径辐射计的图像反演方法,其特征在于,包括下述步骤:S1:根据天线单元的位置坐标计算与天线单元对应的空间频率域中的非均匀采样点的位置,并对天线单元两两做复相关运算获得与所述天线单元对应的非均匀采样点的可见度函数的值;S2:根据非均匀采样点的位置将空间频率域分割成多个区域,并计算每个区域的面积;S3:根据每个区域的面积对非均匀采样点的可见度函数的值进行离散卷积运算,获得均匀采样点的可见度函数的值;S4:对所述均匀采样点的可见度函数的值进行傅里叶逆变换,获得观测空间的中间亮温分布图像;S5:根据中间亮温分布图像和窗函数的傅里叶逆变换的结果获得修正场景亮温图像;S6:根据修正场景亮温图像和观测场景亮温的倾斜因子的倒数获得观测场景亮温图像。
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