[发明专利]用于淀积反应器的设备

摘要

一种诸如ALD(原子层淀积)设备的设备，其包括：前体源，所述前体源被配置成用于通过顺序的自饱和表面反应将材料淀积在淀积反应器中的被加热的基底上。所述设备包括：供入管线，所述供入管线用于将前体蒸汽从所述前体源供应到反应室中；以及结构件，所述结构件被配置成利用来自反应室加热器的热量阻止前体蒸汽在所述前体源和所述反应室之间凝结成液相或固相。本发明还提供了脉冲阀、前体源、前体盒以及方法。

主权项

1.一种前体源，包括：前体盒，所述前体盒是可拆装的；导热的源主体或源机架，其接纳并围绕着可拆装的所述前体盒；第一接头配件，所述第一接头配件被配置成用于将所述前体盒安装到所述前体源以及从所述前体源拆下；密封部分或阀，所述密封部分或阀被配置成密封所述前体盒，以阻止前体材料从所述前体盒内部流到所述第一接头配件；以及第二接头配件，所述第二接头配件用于将所述前体源安装到淀积反应器装置以及从所述淀积反应器装置拆下，从而使得所述前体源和前体盒一起安装和拆卸；和内置加热系统，其具有至少一个加热源，用于加热所述源主体或源机架以及与该源主体或源机架热接触的所述前体盒，其中所述前体源还包括绝热装置，用于覆盖所述源主体或源机架，所述前体盒的底侧的绝热材料比所述源主体或源机架的少，由此在前体盒的底部形成前体源的最冷点。