[发明专利]一种等离子体辐照平台无效
申请号: | 201310156186.5 | 申请日: | 2013-04-28 |
公开(公告)号: | CN103258581A | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 刘东平;杨德明;范红玉 | 申请(专利权)人: | 大连民族学院 |
主分类号: | G21K5/02 | 分类号: | G21K5/02 |
代理公司: | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人: | 赵淑梅;李馨 |
地址: | 116600 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种等离子体辐照平台,属于等离子体应用技术领域,其包括离子源、腔体和激光加热系统,所述离子源密封在腔体内,激光加热系统在腔体外,所述离子源包括石英管、缠绕在石英管外壁上的铜管和用于屏蔽射频电场的屏蔽罩,石英管和缠绕在石英管外壁上的铜管置于屏蔽罩内,石英管上端设有进气口,石英管下端设有离子喷射口,所述铜管两端在腔体外与射频电源两端连接,所述屏蔽罩底部设有通孔,所述腔体内设有样品台,样品台位于离子源正下方,样品台正下方设有石英窗,石英窗与腔体密封连接,所述激光加热系统包括组合式激光器,组合式激光器固定在石英窗正下方,本发明有益效果为设备简单,具有成本低廉、实验周期短、实验效率高优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子体 辐照 平台 | ||
【主权项】:
一种等离子体辐照平台,其特征在于:所述等离子体辐照平台包括离子源(1)、腔体(2)和激光加热系统(3),所述离子源(1)密封在腔体(2)内,所述激光加热系统(3)在腔体(2)外,所述离子源(1)包括石英管(11)、缠绕在石英管外壁上的铜管(12)和用于屏蔽射频电场的屏蔽罩(13),所述石英管(11)和缠绕在石英管外壁上的铜管(12)置于屏蔽罩(13)内,所述石英管(11)上端设有与腔体外连通的进气口(111),石英管(11)下端设有离子喷射口(112),所述铜管(12)两端在腔体(2)外与射频电源两端连接,所述屏蔽罩(3)底部设有用于通过等离子体的通孔(131),所述腔体(2)内设有样品台(21),样品台(21)位于离子源(1)正下方,样品台(21)正下方设有石英窗(22),所述石英窗(22)与腔体(2)密封连接,所述激光加热系统(3)包括组合式激光器(31),组合式激光器(31)固定在石英窗(22)正下方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连民族学院,未经大连民族学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310156186.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。