[发明专利]一种等离子体辐照平台

权利要求书

1.一种等离子体辐照平台，其特征在于：所述等离子体辐照平台包括离子源（1）、腔体（2）和激光加热系统（3），所述离子源（1）密封在腔体（2）内，所述激光加热系统（3）在腔体（2）外，所述离子源（1）包括石英管（11）、缠绕在石英管外壁上的铜管（12）和用于屏蔽射频电场的屏蔽罩（13），所述石英管（11）和缠绕在石英管外壁上的铜管（12）置于屏蔽罩（13）内，所述石英管（11）上端设有与腔体外连通的进气口（111），石英管（11）下端设有离子喷射口（112），所述铜管（12）两端在腔体（2）外与射频电源两端连接，所述屏蔽罩（3）底部设有用于通过等离子体的通孔（131），所述腔体（2）内设有样品台（21），样品台（21）位于离子源（1）正下方，样品台（21）正下方设有石英窗（22），所述石英窗（22）与腔体（2）密封连接，所述激光加热系统（3）包括组合式激光器（31），组合式激光器（31）固定在石英窗（22）正下方。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述进气口（111）设有用于控制气体流量的流量计。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述石英管（11）内设有用于测量压力的热偶真空计。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述腔体（2）设有用于制造腔体真空环境的抽真空系统。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述腔体（2）设有用于测量样品温度的测温仪。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述组合式激光器（31）由若干个激光器耦合在一起。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述样品台（21）设有与样品接触的金属环，所述金属环加载负偏压，所述腔体（2）加载正偏压，所述离子源（1）与所述样品之间形成电场。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述激光加热系统（3）包括组合式激光器（31）和准直镜（32），所述准直镜（32）通过光纤与组合式激光器（31）连接，准直镜（32）固定在石英窗（22）正下方。