[发明专利]掩模系统、掩模方法、曝光系统和曝光方法有效
| 申请号： | 201310156077.3 | 申请日： | 2013-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN103268057A | 公开（公告）日： | 2013-08-28 |
| 发明（设计）人： | 张继凯;吴洪江;黎敏;万冀豫;杨同华;查长军 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩模系统、掩模方法、曝光系统和曝光方法，该掩模系统包括：掩模板、支撑结构、用于设置基板的基台，支撑结构支撑掩模板，掩模板位于基台上方，掩模板与水平面呈设定角度θ，基台与所述掩模板平行，本发明在克服掩模板中部弯曲下垂的同时，不但省去了负压装置带来的成本，增加了经济效益，而且也避免了挤压掩模板两边缘而造成掩模板不必要的损坏。另外，将掩模板、基板、基台倾斜设置，可以减小曝光过程中微粒落到掩模板、基板、基台的机率。 | ||
| 搜索关键词： | 系统 方法 曝光 | ||
【主权项】：
一种掩模系统，包括：掩模板、支撑结构和用于设置基板的基台，所述支撑结构支撑所述掩模板，所述掩模板位于所述基台上方，其特征在于，所述掩模板与水平面呈设定角度θ，所述基台与所述掩模板平行。
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