[发明专利]半导体器件以及用于形成低廓形嵌入式晶圆级球栅阵列模塑激光封装的方法有效
申请号: | 201310145987.1 | 申请日: | 2013-03-01 |
公开(公告)号: | CN103295925B | 公开(公告)日: | 2018-06-08 |
发明(设计)人: | 尹胜煜;J·A·卡帕拉斯;林耀剑;P·C·马里穆图 | 申请(专利权)人: | 新科金朋有限公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L21/768;H01L21/60;H01L23/31;H01L23/528 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 卢江 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 新加坡;SG |
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摘要: | 一种半导体器件,具有半导体管芯,其具有沉积在半导体管芯之上和周围的密封剂。在密封剂的第一表面之上形成互连结构。形成从密封剂的第二表面到密封剂的第一表面的开口以暴露互连结构的表面。凸块形成为在开口内凹进并被设置在互连结构的表面之上。提供一种半导体封装。半导体封装被设置在密封剂的第二表面之上并且被电连接到凸块。在半导体封装之上形成多个互连结构以将半导体封装电连接到凸块。半导体封装包括存储器件。半导体器件包括小于1毫米的高度。开口包括通过激光直接烧蚀形成的锥形侧壁。 | ||
搜索关键词: | 半导体封装 密封剂 互连结构 半导体器件 半导体管芯 开口 第二表面 第一表面 电连接 凸块 存储器件 激光封装 球栅阵列 凸块形成 锥形侧壁 低廓形 晶圆级 嵌入式 内凹 烧蚀 沉积 激光 暴露 | ||
【主权项】:
一种制造半导体器件的方法,包括:提供半导体管芯;在所述半导体管芯之上以及周围沉积密封剂;去除所述密封剂的一部分以减小所述密封剂的厚度并平面化所述密封剂的第一表面;在去除所述密封剂的所述部分之后在所述半导体管芯的有源表面和与所述密封剂的第一表面相对的所述密封剂的第二表面之上形成第一互连结构;形成从所述密封剂的第一表面延伸至所述第一互连结构的开口;在所述密封剂的所述开口之上沉积凸块材料,所述凸块材料的一部分在所述密封剂的所述开口的外部;以及回流所述凸块材料以使所述凸块材料流入所述开口并与所述第一互连结构相接触,以形成在所述开口内凹进的凸块。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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