[发明专利]苦参碱-蒙脱石纳米复合物及其制备方法无效
| 申请号： | 201310138152.3 | 申请日： | 2013-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN103251956A | 公开（公告）日： | 2013-08-21 |
| 发明（设计）人： | 张彩云 | 申请（专利权）人： | 张彩云 |
| 主分类号： | A61K47/48 | 分类号： | A61K47/48;A61K31/4375;A61P29/00;A61P9/06;A61P35/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230031 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种苦参碱-蒙脱石纳米复合物及其制备方法，所述纳米复合物包括苦参碱和蒙脱石，所述蒙脱石的层间距为1.8nm～1.86nm；所述制备方法包括以下步骤：步骤(1)，将蒙脱石和尿素均匀混合后进行固相研磨，通过借助所述尿素的作用撑大所述蒙脱石的层间距，待研磨的粉体发粘并变得潮湿即可，获得经尿素处理后的蒙脱石；步骤(2)，称取苦参碱在水中溶解，分批加入到所述经尿素处理后的蒙脱石中，然后共混搅拌，离心收集沉淀物，干燥，研磨，即获得所述纳米复合物。本发明通过固相研磨法借助尿素的作用撑大蒙脱石层间距，进而通过溶液共混法，从而实现蒙脱石对苦参碱药物的有效承载和缓慢控制释放，而且安全无毒副作用。 | ||
| 搜索关键词： | 苦参 蒙脱石 纳米 复合物 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种苦参碱‑蒙脱石纳米复合物，其特征在于，包括苦参碱和蒙脱石，所述蒙脱石的层间距为1.8nm～1.86nm。
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