[发明专利]苦参碱-蒙脱石纳米复合物及其制备方法无效
| 申请号： | 201310138152.3 | 申请日： | 2013-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN103251956A | 公开（公告）日： | 2013-08-21 |
| 发明（设计）人： | 张彩云 | 申请（专利权）人： | 张彩云 |
| 主分类号： | A61K47/48 | 分类号： | A61K47/48;A61K31/4375;A61P29/00;A61P9/06;A61P35/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230031 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 苦参 蒙脱石 纳米 复合物 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种苦参碱-蒙脱石纳米复合物，其特征在于，包括苦参碱和蒙脱石，所述蒙脱石的层间距为1.8nm～1.86nm。
2.根据权利要求1所述的苦参碱-蒙脱石纳米复合物，其特征在于，所述蒙脱石为钠基蒙脱石。
3.一种苦参碱-蒙脱石纳米复合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤(1)，将蒙脱石和尿素均匀混合后进行固相研磨，通过借助所述尿素的作用撑大所述蒙脱石的层间距，待研磨的粉体发粘并变得潮湿即可，获得经尿素处理后的蒙脱石；
步骤(2)，称取苦参碱在水中溶解，分批加入到所述经尿素处理后的蒙脱石中，然后共混搅拌，离心收集沉淀物，干燥，研磨，即获得所述苦参碱-蒙脱石纳米复合物。
4.根据权利要求3所述的苦参碱-蒙脱石纳米复合物的制备方法，其特征在于，所述蒙脱石为钠基蒙脱石。
5.根据权利要求3或4所述的苦参碱-蒙脱石纳米复合物的制备方法，其特征在于，所述研磨为常温手动或机械研磨，时间为0.5～1h。
6.根据权利要求5所述的苦参碱-蒙脱石纳米复合物的制备方法，其特征在于，所述共混搅拌的温度为70℃～85℃，所述共混搅拌的时间为1.5～2.5h。
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