[发明专利]用于面曝光快速成形系统的二次交错曝光方法有效

专利信息
申请号: 201310124051.0 申请日: 2013-04-11
公开(公告)号: CN103213282A 公开(公告)日: 2013-07-24
发明(设计)人: 胥光申;宫静 申请(专利权)人: 西安工程大学
主分类号: B29C67/00 分类号: B29C67/00
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 罗笛
地址: 710048 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开的用于面曝光快速成形系统的二次交错曝光方法,具体按照以下步骤实施:1)先由计算机将零件3D模型进行分层处理,得到零件模型的各截面数据;2)由图形发生器根据计算机提供的零件模型的各截面数据,生成零件各截面的光学数字视图掩模;3)利用计算机将生成的零件各截面的光学数字视图掩模划分成若干个水平方向栅格样式视图掩模或若干个垂直方向栅格样式视图掩模,上一层零件截面采用水平方向的栅格样式视图掩模,则当前层零件截面采用垂直方向的栅格样式视图掩模;4)采用二次交错曝光固化的方法制作零件原型。本发明的面曝光快速成形系统的二次交错曝光方法在制作零件原型时,可减小固化变形,提高了制作精度。
搜索关键词: 用于 曝光 快速 成形 系统 二次 交错 方法
【主权项】:
用于面曝光快速成形系统的二次交错曝光方法,其特征在于,具体按照以下步骤实施:步骤1、先由计算机将零件3D模型进行分层处理,得到零件模型的各截面数据;步骤2、经步骤1处理后,由图形发生器根据计算机提供的零件模型的各截面数据,生成零件各截面的光学数字视图掩模;步骤3、利用计算机将步骤2中生成的零件各截面的光学数字视图掩模划分成若干个水平方向栅格样式视图掩模或若干个垂直方向栅格样式视图掩模,相邻两层零件截面采用不同的方向的栅格样式视图掩模,即上一层零件截面采用水平方向的栅格样式视图掩模,则当前层零件截面采用垂直方向的栅格样式视图掩模;步骤4、采用二次交错曝光固化的方法制作零件原型。
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