[发明专利]用于面曝光快速成形系统的二次交错曝光方法

权利要求书

1.用于面曝光快速成形系统的二次交错曝光方法，其特征在于，具体按照以下步骤实施：

步骤1、先由计算机将零件3D模型进行分层处理，得到零件模型的各截面数据；

步骤2、经步骤1处理后，由图形发生器根据计算机提供的零件模型的各截面数据，生成零件各截面的光学数字视图掩模；

步骤3、利用计算机将步骤2中生成的零件各截面的光学数字视图掩模划分成若干个水平方向栅格样式视图掩模或若干个垂直方向栅格样式视图掩模，相邻两层零件截面采用不同的方向的栅格样式视图掩模，即上一层零件截面采用水平方向的栅格样式视图掩模，则当前层零件截面采用垂直方向的栅格样式视图掩模；

步骤4、采用二次交错曝光固化的方法制作零件原型。

2.根据权利要求1所述的用于面曝光快速成形系统的二次交错曝光方法，其特征在于，所述步骤3中划分的栅格的宽度范围为0.01mm～20mm。

3.根据权利要求1所述的用于面曝光快速成形系统的二次交错曝光方法，其特征在于，所述步骤4具体按照以下步骤实施：

步骤4.1、利用经步骤3划分好栅格样式的视图掩模对液态光敏树脂进行曝光固化，形成零件当前截面的光固化树脂层；

步骤4.2、经步骤4.1，液态光敏树脂供给装置在零件已经固化的光固化树脂层上附着一层液态树脂，接着由树脂槽中的升降工作台带动正在制作的零件下降到下一层，为下一层光固化树脂层附着液态树脂，直到所有零件截面的光固化树脂层都附着了液态树脂；

步骤4.3、从第一层树脂层开始起，对同一层树脂层进行两次曝光固化，两次曝光固化之间有时间间隔，再对不同树脂层进行曝光固化：

第一次曝光固化时：只对不相邻且只间隔一个栅格的所有栅格进行曝光；

第二次曝光固化时：只对第一次曝光时未曝光的所有栅格进行曝光；

对不同树脂层进行曝光时，相邻两层树脂层采用不同方向的划分栅格样式进行曝光，具体曝光方式为：

若上一层树脂层采用水平方向的栅格曝光时，当前树脂层采用垂直方向的栅格曝光；

相反，若上一层树脂层采用垂直方向的栅格曝光时，当前树脂层采用水平方向的栅格曝光；

从第一层开始起，按照以上要求，完成所有树脂层的曝光固化，即完成对整个零件的光固化快速成型。

4.根据权利要求3所述的用于面曝光快速成形系统的二次交错曝光方法，其特征在于，所述步骤4.3中两次曝光固化之间的时间间隔范围为：0.01秒～200秒。